薄膜技术培训讲义.pdfVIP

moc.001nyt.www//:ptth 圈交社人真伏光 网系关能阳太 培训教材PECVD PECVD PECVD PECVD 培训教材PECVD PECVD PECVD PECVD 目 录 � 定义 � PECVD 原理 � PECVD 设备简介 � PECVD 日常维护 � PECVD 安全 定 义 PECVD PECVD定义 PPEECCVVDD Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 等离子增强的化学气相沉积 定 义 PECVD 是借助微波或射频等使含有薄膜组成原 PECVD PPEECCVVDD 子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子 化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积 出所期望的薄膜。 定 义 等离子体：气体在一定条件下受到高能激发，发 生电离，部分外层电子脱离原子核，形成电子、 正离子和中性粒子混合组成的一种形态，这种形 态就称为等离子态。 定 义 1981年，SiNx开始应用于晶体硅太阳电池 SiNA 是德文Silizium（硅）-Nitrid（氮）-Anlage （处理系统）的缩写。它是专门利用PECVD过程 来沉积氮化硅薄膜的系统。 生产公司：RothRau AG 等离子产生方式：微波（2.45GHz） PECVD PECVD 原理 PPEECCVVDD PECVD 技术原理是利用低温等离子体作能量源，样品置于 低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体） 使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体 经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄 膜。PECVD方法区别于其它CVD