电子科技大学物理光学第七章.pptVIP

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电子科技大学物理光学第七章

* * 第七章 半导体器件物理基础 半导体器件有67种,110种变种 由少数基本模块组成(实现其功能) PN结 晶-半接触 MOS结构 异质结 超晶格 第一节 PN结 一、形成和杂质分布 p n 二、平衡p-n结 1、空间电荷区与自建场 n:多电子,少空穴 p:多空穴,少电子 1)存在浓度梯度-扩散 n区:电子-p区,剩下正电荷离子,正电荷区 p区:空穴-n区,剩下负电荷离子,负电荷区 空间电荷:pn结附近电离施主和电离受主所带的电荷 空间电荷区:空间电荷所在的区域 2)电荷分布不均,形成内电场(自建场) 方向:n区-p区 载流子漂移运动,与扩散方向相反,阻碍作用 扩散 运动 空间电 荷增多 空间电 荷区扩展 自建电 场增强 漂移运 动增强 两运动 平衡 无电流 pn结:空间电荷一定 空间电荷区宽度一定 内建场一定 2、平衡pn结能带图 弯曲原因 内建电 场增强 有了能带弯曲 电子从n-p需克服势垒 空穴从p-n需克服势垒 空间电 荷多 电势V(x) 由n-p下降 电子势能 由n-p上升 p区能 带上移 n区能 带下降 EF统一 为止 3、平衡pn结接触电势差 pn结空间电荷区存在电场 空间电荷区两端存在电势差VD n区电势高于p区 定义p区为0,则n区为VD qVD-p-n结的势垒高度 补偿了n区、p区费米能级之差,平衡时处处相等 第二节 半导体表面 1)纯净表面 1、半导体表面态 表面与体内有很大的不同 超高真空下解理、离子轰击、生长等 什么叫表面? 周期势场被破坏 产生附加能级 表面处势场中断,产生附加能级-表面能级 电子被束缚在表面附近-电子表面态 表面态密度=表面悬挂键密度 1015 2、实际的表面 实际表面会吸附杂质、氧化等 表面态密度下降 会不会为零? 半导体 氧化层 快态 慢态 施主表面态: 表面能级释放电子后呈正电性 位置靠近价带 受主表面态: 表面能级获得电子后呈负电性 位置靠近导带 3、表面电场效应 表面存在一个电场 施主表面态和受主表面态与体内电子态之间交换电子; 功函数不同的金属和半导体接触; MOS结构或MIS结构; 金属和半导体之间施加电压,产生垂直表面的电场。 1)半导体表面三种状态(n) 表面带正电(施主) 近表面负电荷 积累了电子 静电场 表面-内部 电势差0 表面势能低于体内 能带向下弯曲 电子势阱 表面带负电(受主) 近表面正电荷 排斥电子 静电场内部-表面 电势差0 表面势能高于体内 能带向上弯曲 电子耗尽 表面带负电很大 正电荷增加 表面电场增强 能带弯曲加剧 EF可能低于Ei 表面处空穴浓度超过了电子浓度 与原材料型相反 反型层 反型层和半导体内部之间夹有一层耗尽层 4)理想MOS结构 金属与半导体功函数相同; 在氧化层内没有任何电荷且氧化层完全不导电; 氧化层与半导体界面处不存在任何界面态 M带正,半导体近界面处感应出负电荷,积累层 M带负,半导体界面感应出正电荷,耗尽层、反型层 空间电荷区内电荷的分布情况随金属与半导体间 所加电压的变化,基本上可归纳成积累、耗尽和 反型三种情况 第三节 金-半接触 1、金-半接触的势垒模型 金属: 根据半导体掺杂浓度不同,产生整流(单向), 欧姆(双向) 功函数:电子从费米能级到真空能级所需的最小能量 金属和半导体的功函数 半导体: 大,不易离开

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