氮化硅的超高压烧结研究.pdf

西南科技大学硕士研究生学位论 第1页 摘 要 i。N。)作为一种高温结构陶瓷，具有高强度、高硬度、 氮化硅(S 良好的抗热震、抗氧化、耐腐蚀等优良性能，被广泛应用于机械、石 油、化工、航空航天等行业。本研究以a—Si。N。、B—Si。N¨Y—Si。N。 为原料，选用Y：O。、La。O。、A1。O。为烧结助剂，采用超高压烧结技术 制备氮化硅陶瓷。通过相对密度测试、维氏硬度测量、X射线衍射 (XRD)及扫描电镜观察(SEM)对氮化硅的高压稳定性、烧结过程、 显微结构进行了研究。 Q—S 研究结果表明， i。N。、Y—Si。N。为高温高压不稳定相，当烧 结温度、压力较高时发生向B—Si。N，的相转变。在5．2—5．7GPa高压 100一1 下，Q—Si。N。相转变开始于1 200℃，相转变程度随温度、压力 的升高而增大，在5．7GPa、1300℃时基本完成。Y—Si。N。在5．7GPa 向Q—Si。N。的转变温度低于1000℃，结束1lOO℃左右，且随着温度 的升高，生成的Q—Si。N。再发生向B—Si。N。的转变，相转变顺序为Y —a—B。 烧结试样性能受烧结温度、压力、烧结助剂及原料影响。以Q —Si。N。为原料的烧结试样性能优于以B—Si。N。为原料的烧结试样，其 相对密度、维氏硬度随烧结温度、压力的升高而提高，最高为5．7GPa、 1500℃时的99．8％、23．3GPa，其显微结构均匀，断裂面有明显的晶 粒拔出现象。烧结助剂参与了烧结过程，最终可能以玻璃相留在氮化 硅陶瓷中。烧结工艺相同时，以Q—Si。N。为原料的烧结试样性能随 烧结助剂种类及数量的不同而不同，添加不同烧结助剂烧结试样的性 能优异顺序为Al：O。一Y：O。体系，A1：O。体系，Y。0。体系。 Y—Si。N。的存在降低了烧结温度，减小了晶粒尺寸，提高了氮化 硅陶瓷的显微硬度。经5．7GPa、1000℃超高压烧结后试样的相组成 1．7％Y—S 为25．6％Q—Si。N。、52．7％9一Si。N。、2 i。N。，维氏硬度为 27．9GPa，大大超过了Q—Si。N。、B—Si。N。陶瓷的显微硬度。 关键词：氮化硅陶瓷 超高压烧结 相稳定性 显微结构 西南科技大学硕士研究生学位论 第1I页 Abstract Silicon a ceramicsis nitride(Si3N4)ashigh—performance widely to industrialfields the suchasmachine applied many work， of and toits exploitationoil，chemical industry，aViationaerospace，due excellent and many high hardness，low propertiesincludingstrength coeffi