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* 固体化合物表面分析 三种铑催化剂X射线电子能谱对比分析; * ? ? 纳米碳管氧化 * (4)化学结构分析 依据:原子的化学环境与化学位移之间的关系; 例:化合物中有两种碳原子,两个峰;苯环上碳与羰基上的碳; 羰基碳上电子云密度小,1s电子结合能大(动能小); 峰强度比符合碳数比。 * B 1s正位移 B给Ni电子 P 2p无位移 无电子转移 ? 非晶态NiB、NiP合金中的电荷转移 * 表面吸附状态 呋喃在Ru(001)单晶表面的吸附态 * 呋喃在Si(100)单晶上的化学吸附态 (a) C 1 s and (b) O 1s spectra obtained from the furan chemisorbed on Si(100). These spectra were measured at the photon energy of 330 and650 eV. The model is illustrated along with the adsorbed furan. The largest spheres are Si, the middle-size spheres are C (block sphere), and the smallest are O (gray sphere). * [4+2] [2+2] * 吡啶在单晶硅表面的吸附:B酸和L酸测定 样品处于-90oC,吸附吡啶后用XPS记录N 1s 峰。有二个,彼此相隔2eV,均属氧化态。Eb高的与B酸有关,Eb低的与L酸有关 B酸意味着表面有质子存在,吡啶中的N接受质子而氧化。这样吡啶分子吸附在B位时带正电 L酸意味着表面存在接受电子对的部位,吡啶中的N有一对自由电子,可与L酸共价或配位,这样吡啶中的N的外层电子总的说远离了些,N也氧化了。但不及B酸位上接受质子而氧化的强烈 * 测得吸附吡啶后两个N 1s 峰的强度与Si 2p比值Rd1和Rd2 说明活化温度低,B酸为主,活化温度高,L酸为主 * 定量分析:灵敏度因子 I=nS,S为影响因子 * * 电子能谱分析仪(多功能) electron spectroscopy 激发源 试样装置 电子能量分析器 检测器 计算机 * 1. 激发源 X射线电子能谱:X射线管; 紫外电子能谱:He、Kr的共振线; Auger电子能谱:强度较大的电子枪(5-10 keV); * 2. 电子能量分析器 (1)半球型电子能量分析器 改变两球面间的电位差,不同能量的电子依次通过分析器;分辨率高; (2)筒镜式电子能量分析器 (CMA) 同轴圆筒,外筒接负压、内筒接地,两筒之间形成静电场; 灵敏度高、分辨率低;二级串联; * 3. 检测器 产生的光电流:10-3~10-9; 电子倍增器作为检测器; 单通道电子倍增器;多通道电子倍增器; 4. 真空系统 光源、样品室、电子能量分析器、检测器都必须在高真空条件下工作; 真空度:1.33?10-6 Pa 。 * X-ray electron spectroscopy X射线光电子能谱分析法 * 电子能谱的基本原理 能量关系可表示: 原子的反冲能量 忽略 (0.1eV)得 电子结合能 电子动能 基本原理就是光电效应。 * 电子能谱法:光致电离; A + h?? A+* + e h? 紫外(真空)光电子能谱 h? X射线光电子能谱 h? Auger电子能谱 单色X射线也可激发多种核内电子或不同能级上的电子,产生由一系列峰组成的电子能谱图,每个峰对应于一个原子能级(s、p、d、f); * 电离过程——一次过程 弛豫过程——二次过程 * 对固体样品,必须考虑晶体势场和表面势场对光电子的束缚作用,通常选取费米(Fermi)能级为 的参考点。 0k时固体能带中充 满电子的最高能级 对孤立原子或分子, 就是把电子从所在轨道移到真空需的能量,是以真空能级为能量零点的。 功函数 * 功函数 为防止样品上正电荷积累,固体样品必须保持和谱仪的良好电接触,两者费米能级一致。 实际测到的电子动能为: 仪器功函数 * 光电离几率和电子逃逸深度 自由电子产生过程的能量关系: h? = Eb+ Ek+ Er ≈ Eb+ Ek Eb:电子电离能(结合能); Ek:电子的动能; Er :反冲动能 光电离几率(光电离截面?):一定能量的光子在与原子作用时,从某个能级激发出一个电子的几率; ?与电子壳层平均半径,入射光子能量,原子序
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