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温度对金属薄膜的影响 禅 明 摘 要 薄膜沉积技术已发展为二个主要方向：（1）化学气相沉积 （ Chemical Vapor Deposition），简称为CVD（2）物理气相沉积 （ Physical Vapor Deposition），简称为PVD。PVD沉积技术有蒸镀（Evaporation Deposition） 和溅镀（Sputtering Deposition）二种，前者通过被蒸镀物体加热，利用被蒸镀物在高温（接近其熔点）时的饱和蒸气压，来进行薄膜沉积的；后者是利用等离