紫外光及深紫外光薄膜光学特性之研究与滤光片之设计及制作.PDFVIP

行 濾 濾 類 行 年年 行 立 李 參理 劉 理 利 年 年 ■ 成 果 報 告 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 □期中進度報告 紫外光及深紫外光濾光片之研製(II)--紫外光及深紫外光薄膜 光學特性之研究與濾光片之設計及製作(2/2) 計畫類別：□ 個別型計畫 ■ 整合型計畫 計畫編號： NSC 95-2221-E-008-156 執行期間： 2006年 8 月 1 日至 2007 年 7 月 31 日 計畫主持人：李正中 共同主持人： 計畫參與人員： 劉旻忠、唐謙仁、吳鍇、張德宏 成果報告類型(依經費核定清單規定繳交)：□精簡報告 ■完整報告 本成果報告包括以下應繳交之附件： □赴國外出差或研習心得報告一份 □赴大陸地區出差或研習心得報告一份 □出席國際學術會議心得報告及發表之論文各一份 □國際合作研究計畫國外研究報告書一份 處理方式：除產學合作研究計畫、提升產業技術及人才培育研究計畫、列 管計畫及下列情形者外，得立即公開查詢 □涉及專利或其他智慧財產權，□一年■二年後可公開查詢 執行單位：中央大學光電科學與工程學系 中 華 民 國 96 年 10 月 日 中文摘要 本計畫研究分成三個部分，第一部份為薄膜基本特性的研究，延續先前蒸鍍深紫 外光氟化物薄膜的研究外，加入濺鍍製程配合 CF 氣體製鍍氟化物薄膜，亦結合子 4 計畫一與子計畫二，在傾斜蒸鍍下，製鍍不同週期厚度之鋸齒狀交疊奈米結構薄膜， 亦藉此將 P偏振光與 S偏振光在 193nm處之折射率差值提高到 0.8 ，對於單層與多 層非均向薄膜也作深入探討。第二部分為 鍍膜製程技術的改良，主要可以細分為兩 部分，一為以低能量離子源輔助蒸鍍氟化 物薄膜的研究，二為以後處理方式，對薄 膜作改質的研究。第三部分為於實際應用薄膜，主要完成了 193nm 抗反射膜與高反 射薄膜的製作與特性的討論。本計畫的研究成果亦提供子計畫一、二和三使用與研 究。 關鍵字：薄膜特性、非均向性薄膜、後處理 、抗反射膜、高反射膜 I 英文摘要 This project includes three parts. The first part is the fundamental research about the properties of thin films. In this part, we not only continued the research of optical coating technologies in UV and DUV regions, but also developed the t