光电子能谱分析2016.pptxVIP

灵敏的检测技术，因为一般表面原子占整个晶体的比例为10－7左右，几乎所有的检测技术要用到信号放大器及倍增管，以及光子或电子计数器； 检测的技术是表面灵敏的，因为要研究表面的理化性能； 要检测信号，必须要有信号载体，我们称这种信号载体为探针； 样品表面可控制的，即结构和化学组成等可以控制。 ;表面分析信号;表面分析方法分类;表面成分分析 -光电子能谱 ;前 言;电子能谱学的定义;电子能谱学的物理基础 ;电子能谱学的发展基础;电子能谱学的发展基础;电子能谱学的研究内容;电子能谱学的研究内容;电子能谱学与表面分析的关系;电子能谱学与表面分析的关系;电子能谱学的应用 ;电子能谱的发展趋势 ;电子能谱特征：;X射线光电子能谱 XPS;发展历史;X射线光电子能谱仪发展历史 50年代，K.Siegbahn(西格巴恩,瑞典科学家) 研制成功XPS谱仪 60年代，发展成为商用仪器 主要：PHI公司，VG公司，Karatos 公司 发展方向：单色化，小面积，成像XPS;XPS ??光电效应;主要部件： 真空系统； X射线源； 离子源 能量分析系统 电子控制系统 数据采集和处理系统;真空系统 为什么需要超高真空？ 电子的平均自由程；（10－5Torr，50m） 清洁表面（10－6torr，1s，原子单层） 场发射离子枪要求（ 10-8torr ） XPS要求：10-8torr以上 ;真空系统的构成 机械泵：有油污染，噪音，10－3torr 吸附泵：干净，需要液氮，容量小， 10－3torr 油扩泵：价格低，油污染， 10－6－ 10－10torr 涡轮分子泵：体积小，半无油，抽速大，价高 噪音大， 10－8torr 溅射离子泵：高真空，无油，需要前级真空 无噪音，10－11torr 升华泵：抽速高，需要前级真空，消耗性;X射线源结构;Mg/Al双阳极X射线源 能量范围适中（1253.7和1486.7eV） X射线的能量范围窄（0.7和0.85 eV） 能激发几乎所有的元素产生光电子； 靶材稳定，容易保存以及具有较高的寿命;XPS ??X射线光电子谱仪;XPS ??X射线光电子谱仪;;;金属铝低结合能端的放大谱(精细结构);化学位移;化学位移;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS样品的制备和前处理 XPS实验方法的种类和重要?? XPS分析方法的种类和重要性 XPS的信息来源及适用范围;样品的制备;在实验过程中样品必须通过传递杆，穿过超高真空隔离阀，送进样品分析室。因此，样品的尺寸必须符合一定的大小规范。 对于块体样品和薄膜样品，其长宽最好小于10mm, 高度小于5 mm。 对于体积较大的样品则必须通过适当方法制备成合适大小的样品。 但在制备过程中，必须考虑到处理过程可能会对表面成分和状态的影响。;粉体样品;挥发性材料;污染样品;带有磁性的材料;离子束溅射 样品表面的清洁； 样品表面层的剥离； Ar离子，氧离子，铯离子，镓离子等 固定溅射和扫描溅射方式 溅射的均匀性;离子束溅射技术 ;XPS的定性分析 ;XPS定性分析方法;XPS定性分析方法;XPS定性分析;XPS定性分析;XPS定性分析;俄歇电子能谱;Why the Odd Name?;俄歇电子能谱;AES的特点;AES原理;AES原理;俄歇谱仪结构框图;样品制备;俄歇电子能谱分析;俄歇电子能量图 主要俄歇峰的能量用空心圆圈表示， 实心圆圈代表每个元素的强峰;定性分析的一般步骤：;俄歇电子能谱法的应用;俄歇电子能谱在材料科学研究中的应用;局限性;固体表面清洁程度的测定 ;表面吸附和化学反应的研究 ;表面吸附研究;表面吸附反应;表面清洁度检测;薄膜厚度测定 ;薄膜厚度的测定;薄膜的界面扩散反应研究 ;薄膜的界面扩散反应研究;薄膜的界面扩散反应研究;离子注入研究 ;固体表面的离子注入;固体表面的离子注入;薄膜制备的研究 ;薄膜制备的研究;固体化学反应研究 ;固体化学反应研究;表面扩散研究 ;表面扩散研究;摩擦化学研究 ;摩擦化学研究;摩擦化学研究;材料的元素偏析研究 ;材料的元素偏析研究;薄膜催化剂的研究 ;薄膜催化剂的研究;薄膜催化剂的研究;END