共聚焦激光扫描光学显微成像中关键技术研究魏通达(光学工程)导师:唐玉国摘要共聚焦激光扫描光学显微成像(CLSM),不同于一般的荧光显微成像,它在光路中加入与物点共轭的探测针孔,起到空间滤波作用,能够去除离焦荧光的干扰,并可进行光学层切,CLSM通过逐点逐层的扫描方式,实现对观测样品区域的三维成像。CLSM是无损伤的光学远场成像技术,能够同时提供较高的横向和轴向分辨率,这使得它在生物医学领域有着极高的应用价值,同样也应用在材料科学领域。CLSM本身也具有极高的研究价值,其成像质量和性能上都可以进一步提高,并为新技术的研究提供良好的拓展平台。为此,展开了对共聚焦激光扫描光学显微成像中的关键技术研究。一个完整的CLSM系统极为复杂,包括了许多的关键技术,结合专业特点,本文主要从以下几个关键技术角度展开研究:成像理论研究。从基本理论出发,以Richards-Wolf矢量衍射理论为基础,进行共聚焦光学成像理论研究。推导照明点扩散函数、探测点扩散函数和共聚焦点扩散函数。研究数值孔径、多层介质和针孔因素等对它们的影响。扫描成像技术研究。以扫描振镜的扫描方式为基础,研究扫描光路和对扫描振镜的控制,提出两种不同的扫描校正方式,即扫描透镜校正和反正切振镜驱动信号校正。多光谱成像技术研究。分为两部分,一是多波长激光激发,实现不同波的合束和选通;二是多光谱荧光探测,实现荧光光谱的分光探测。受激辐射损耗技术
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