测试技术(第五章长度和线位移测量).ppt

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测试技术(第五章长度和线位移测量)

测试技术 (检测技术) 第五章 长度和线位移的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.1 长度的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.2 尺寸的测量 5.3 形位误差测量 5.3 形位误差测量 5.3 形位误差测量 5.3 形位误差测量 5.3 形位误差测量 5.3 形位误差测量 5.4 表面粗糙度测量 5.4 表面粗糙度测量 5.4 表面粗糙度测量 5.4 表面粗糙度测量 5.4 表面粗糙度测量 5.4 表面粗糙度的非接触式测量 5.5 线位移与距离测量 5.5 线位移与距离测量:透射式光栅 5.5 线位移与距离测量:透射式光栅 5.5 线位移与距离测量:透射式光栅 5.5 线位移与距离测量:透射式光栅 5.5 线位移与距离测量:透射式光栅 5.5 线位移与距离测量:透射式光栅 5.5 线位移与距离测量:透射式光栅 非接触式线位移测量 非接触式线位移测量:电涡流位移传感 非接触式线位移测量:反射式光栅 非接触式线位移测量:反射式光栅 非接触式线位移测量:激光位移传感器 距离测量 距离测量:相位差测距 栅距:光栅的栅距W=a+b,a、b分别为透光和不透光条纹的宽度,通常a=b;光栅的精度越高,栅距W就越小;一般栅距可由刻线密度算出,刻线密度为25,50,100,250条/mm。 莫尔条纹的形成 莫尔条纹的宽度可按下式计算: 设a=b=W/2, 则 (W/2)/B=sin(θ/2), 所以,B=W/(2sin(θ/2)), 当θ很小时,sin(θ/2)= θ/2, 故有:B=W/θ, 称作莫尔条纹的宽度, 又称为节距。 莫尔条纹现象 当两块光栅互相靠近且沿刻线方向保持有一个夹角时,两块光栅的暗条与亮条重合的地方,使光线透不过去,形成一条暗带 ;而亮条与亮条重合的地方,部分光线得以通过,形成一条亮带 。这种亮带与暗带形成的条纹称为莫尔条纹,如图所示。 莫尔条纹的特点 ①平均效应:莫尔条纹是由光栅的大量刻线共同形成,对光栅的刻线误差有平均作用。 ②对应关系:莫尔条纹近似与刻线垂直,当夹角θ固定后,两光栅相对左右移动一个栅距W时,莫尔条纹上下或下上移动一个节距B,因此,可以通过检测莫尔条纹的移动条数和方向来判断两光栅相对位移的大小和方向。 ③放大作用:由公式B=W/θ可知,当W一定,而θ较小时,可使θ1,则BW。如:长光栅在一毫米内刻线为100条,θ=0.5o=0.009 rad,则:B=0.01/0.009≈1mm,放大100倍。 若θ=0,则不产生莫尔条纹,这时光线忽明忽暗,称作光闸效应。 透射式光栅 透射式光栅 反射式光栅 * 5.1 长度的测量 5.2 尺寸的测量 5.5 线位移与距离测量 5.4 表面粗糙度测量 5.3 形位误差测量

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