演示文稿--LED.pptVIP

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演示文稿--LED

异质结特点: ① p型 GaAs衬底外延一层 n 型 AlxGa1- xAs ,皆为重掺杂; ② GaAs的带宽 Eg1 Eg2(AlxGa1- xAs); ③ 电子由大 Eg的 n区注入到小 Eg的 p区遇到的势垒高度为(eVD-ΔEc); ④ 空穴由小 Eg的 p区注入到大 Eg的 n区遇到的势垒高度为(eVD+ΔEv); ⑤ 所以即使 ND和 NA都不是很大,仍有较高的注入效率,本例中电子注入是空穴注入的7.4×105倍; ⑥ 大 Eg的 n区为注入源,小 Eg的 p区为发光区,发光光谱主要决定于 p 区衬底,发出的光经过大 Eg的 n区时不容易被再吸收; ⑦ 对载流子有限制作用,例如双异质结中,可使注入的电子利用率高。 §5.4 发光二极管的发光效率 半导体中注入电能转换成所希望辐射的效率取决于三个过程: ① 超额少子的激发; ② 这些载流子的辐射复合; ③ 产生的光从晶体中逸出的比例。 总的转换效率: 1、功率效率 2、内量子效率 GaAs τr= 1.4× 10-8s,则ηint= 0.88 Si τr=6×10-3s,则ηint=1.7×10-5 一般可取τnr= 10-7s 3、光学效率 GaAs: 折射率 n=3.6 全反射临界角θc= 16.2° 比例系数:k=1- cosθc θc = 16.2° k=0.04 考虑到表面反射系数(对于 GaAs为 0.5): ηopt k 4、串联电阻Rs 直接带间复合材料 Rs=1~ 3Ω 间接带间复合材料 Rs=10Ω 功率效率 5、如何提高 LED 发光效率 (1)掺杂浓度的选择 ① LED 的材料和工艺应保证晶格完整和避免有害杂质混入。 ② ND、NA都有最佳值,由实验确定。 (2)结深的选择 最佳结深值 (3)结构的选择 平面结构,外量子效率很低 改善的措施 : ① 用球形发射表面 nr=3.5 ηext=35% 缺点:球形发射面使材料内部光程增大, 即吸收增大 ② 用折射率大的介质做成圆形窗口 ③ 在背面设置合适反射面,以充分利用侧面发射的光 ④ 即使是矩形封装,也可用折射率大,吸收小的透明材料作 LED 的封装以增加出射光,如GaAs1- xPx LED 采用环氧树脂(nr=1.55)封装,θc增加到 25.5°,出射光增加1.45倍;如用低熔点玻璃(nr =2.5),ηext可提高5~6倍; ⑤ 发出的光在经过欧姆接触层时被吸收最大,适当开窗口可使亮度提高 2~ 3倍。 §5.5 发光二极管制造中的主要工艺技术 一、外延生长技术 外延 --- 在单晶衬底上生长一层新单晶 金属有机化合物气相沉淀(MOCVD) 分类: 气相外延(VPE) 液相外延(LPE) 分子束外延(MBE) * 第五章 发光二极管(LED)显示 §5.1 概述 电—光转换型 p-n 结结构 Losev 1923年 SiC 早期:中、低亮度的红、橙、黄、绿 LED 近期:蓝光 LED 和高亮度、超高亮度 LED LED 产业重点: 可见光范围 380~ 760nm LED 的发光机理 : 电子、空穴带间跃迁复合发光 LED 的主要优点: ① 主动发光,一般产品发光强度 1cd, 高的可达 10cd; ② 工作电压低,约为 2V; ③ 由于是正向偏置工作,因此性能稳定, 工作温度范围宽,寿命长(105h); ④ 响 应 速 度 快; 直接复合型材料:16 ~ 160MHz 间接复合型材料:105~ 106Hz ⑤ 尺寸小。 一般 LED : 0.3mm2 红外 LED LED 的主要缺点: 电流大,功耗大 §5.2 有关半导体及 p-n 结注入发光的基本知识 一、有关能带的基本常识 1、状态密度 单位能量间隔中的量子数 导带底附近的状态密度: 价带顶附近的状态密度: 状态密度与能量关系图 2、费米分布与玻尔兹曼分布 能量为 E 的一个量子态被一个电子占据的几率: f( E)的特性: ① 当 T =0K 时,若 E Ef,则 f( E) =1; 若 E Ef ,则 f( E) =0 ② 当 T 0K 时,若 E Ef ,则 f( E)0.5; 若 E = Ef ,则 f( E)=0.5; 若 E Ef ,则 f( E)0.5 室温下,k0T = 0.02

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