磁控溅射技术设计合成zraln 2fzrb- 2c2-与w 2fzrb- 2c2-纳米多层膜的的研究.pdfVIP

中文摘要 摘要 分析手段研究了薄膜的结构特征；利用表面轮廓仪(Ⅻ．2)和纳米力学测试系 统研究薄膜的硬度、弹性模量以及薄膜与基底的附着力等机械性能。揭示多层膜 体系的结构和性能以及工艺参数之间的相互关系，找出合成最佳多层膜的工艺， 使多层膜体系的硬度、残余应力以及膜基结合力等都明显优于单质薄膜材料。 上制备ZrAlN／ZrB2纳米多层膜。讨论了调制周期、调制比例和N2／Ar比等实验 条件对薄膜结构和性能的影响。SEM和低角XRD证明了薄膜调制结构，同时显 示多层膜界面清晰。当调制周期为40 nnl，ZrAlN和ZrB2调制比例为1／3，工作 气压为0．3／0．4 GPa，同时多层 Pa，N2／Ar比为1／3时，薄膜硬度达到最大值36．4 膜残余应力，摩擦性能以及膜基结合力也都明显优于单质薄膜。多层膜各项机械 性能达到最佳的同时，高角XRD表明多层膜表现出了明锐的Z洲N(111)，A1N 的原因之一。 选取W和ZrB2作为个体层材料，利用射频磁控溅射技术在室温下制备一系 列W／ZrB2纳米多层膜，研究了多层膜调制周期、调制比和工作气压等实验参数 与多层膜结构和机械性能的关系。低角XRD和SEM表明薄膜具有界面清晰的 多层结构。实验表明几乎所有多层膜的硬度和弹性模量都高于单质薄膜，同时多 层膜的残余应力也有所改善。当调制周期为30nlTl，ZrAlN和ZrB2的调制比例为 1／3，I作气压为0．6 GPa。 度和弹性模量分别升高到最大值41．5GPa和539．9 对于ZrAlN／ZrB2和W／ZrB2体系纳米多层膜，以前的文献鲜有报道。本文在 得到多层膜最佳工艺参数，合成具有高硬度，高弹性模量、良好的膜基结合力和 低残余应力的ZrAlN／ZrB2、W／ZrB2纳米多层膜的同时，通过讨论工艺参数、界 面结构、晶体结构与机械性能的关系，对ZrAlN／ZrB2和W／ZrB2两个异结构体系 纳米多层膜的硬度升高做出一定分析。目前，纳米多层膜的研究目前还处于发展 阶段，本研究有望应用于保护涂层材料，对提高多层膜体系的硬度，改善材料表 中文摘要 面性能，开发新的超硬材料，扩大纳米多层膜的工业应用范围具有一定的意义。 关键词：磁控溅射，ZrAlN／ZrB2纳米多层膜，W／ZrB2纳米多层膜，硬度，机械 性能 英文摘要 ABSTRACT This the and of and paperreporteddesign synthesisZrAlN／ZrB2W／ZrB2 withnanoscale on coatings bilayerperiodSi(100)usingultrahigh multilayered vacuumon electron diffraction(XRD)andscanning magnetronsputtering．X—ray to and structureofthe crystal microscopy(SEM)wereemployedinvestigatelayered mechanicalofthe hardness， coatings．The propertiesmultilayeredcoatingsincluding andadhesionweremeasu