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铝镀层表面平整且致密均匀ii通过电镀时间温度
离子液体中金属铝的电沉积及其AAO模板的制备与应用 指导老师:王宏智 学生:张晓振 提纲 课题背景与意义 国内外发展状况 研究内容与方法 实验计划 课题背景与意义 课题背景与意义 有机熔盐体系 国内外发展状况 2011年,华东理工大学李冰采用脉冲电流法在[EMIC]Cl-AlCl3电沉积铝。 国内外发展状况 国内外发展状况 工艺条件:恒压1.4V,电镀时间40min, 温度56℃,电流密度18-20mA/cm2 镀铝层 (i)铝镀层表面平整且致密均匀 (ii)通过电镀时间、温度、电流密度等工艺参数调节铝镀层 国内外发展状况 铜基底镀铝层SEM 国内外发展状况 工艺条件:恒压1.4V,电镀时间45min 温度55℃,电流密度18-20mA/cm2 镀铝层 (i)表面平整、致密、均匀,铝晶粒大小均一 (ii)表面无开裂 研究内容与方法 通过对镀铝层的形貌研究,探寻最佳镀铝工艺 对镀铝层阳极氧化制得AAO模板进行表征 讨论在AAO模板中沉积金属后电极的性能 研究内容与方法 研究内容与方法 研究内容与方法 研究内容与方法 实验计划 2013,5-7:查阅文献及实验前期准备工作。 2013,8-12:离子液体中制备镀铝层。 2014,1-6:对镀铝层形貌和化学成分进行分析。 2014,7-12:在镀铝层上阳极氧化制备AAO模板。 2015,1-4:整理数据,撰写毕业论文。 2015,5-7:准备毕业答辩。 谢谢! * * 电镀铝 三大体系 有机溶剂体系 无机熔盐体系 有机熔盐体系 非AlCl3型 新型离子液体 AlCl3型 离子液体 SEM micrographs of deposits on Cu substrate of an AlCl3-EMIC(2:1 molar ratio) at 60?℃ for 30?min; (a) im?=?20?mA/cm2; (b) im?=?5?mA/cm2; (c) im?=?5?mA/cm2; ton?=?9?ms; toff?=?1?ms. 2012年3月,南京航空航天大学裴玉汝在离子液体[BMIM]Cl-AlCl3中分别以不锈钢和铜为基底,制备出镀铝层。 不锈钢基底镀铝层SEM 放大1000倍 放大5000倍 放大10000倍 放大1000倍 放大5000倍 放大10000倍 离子液体[BMIM]Cl-AlCl3的制备 以铝为阳极,不锈钢或铜基底为阴极,在离子液体中进行电镀 调节工艺参数电镀时间、电流密度,温度等 获得不同条件下的镀铝层并进行测试 在不锈钢或铜基底上镀铝层的制备过程 离子液体中电镀铝装置示意图 离子液体中电沉积铝的工艺流程图 多孔阳极氧化铝膜制备的流程示意图 *
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