直接法合成三烷氧基硅烷的研讨.pdfVIP

摘 要 三烷氧基硅烷既有不稳定的Si．OCH3键，又有活泼的Si。H键，能通 过～系歹0反应如加成、聚合等反应，得到各剃唷机硅化合物。它足一 种重要的有机硅中闻体，以它为原料生产的硅烷偶联剂，广泛应用于 涂料、电子等工业中。在工业上，三烷氧基硅烷是由三氯硅烷和低级 醇反应而得，该反应工艺复杂，收率低，反应过程中伴有大量的氯化 氢气体产生，腐嘏设备，污染环境。而直接法是在铜催化剂及高沸点 有桃介质作埔下，由硅粉与甲醇或乙醇反应得到目的产物。此合成工 艺具有工艺简单，搡作方便，没有污染的优点。目前，在闺内外，掌 握懿接法合成三烷氧基谴烷的生产技术还只有极少数厂家。 本论文系统搿究了在铜催化齐|j及离沸点有概介质作用下，由硅粉 秘低级醇(甲醇或乙醇)直接合成三烷氧基硅烷，取得了包括反应温 度，继化剂种类及用量，进样速度等反鹰条件的优纯参数，同时，在 实验中酋次发现，在反应藩，将矬粉和Cu2C12嚣j微波避行预处理，可 得到赢活性龅硅钢合金，反应活性戏倍增加，并翔SEM及XRD技术 对硅铜合金进行袭援，避一步认识微波预处理影响爱应活性的深艨原 因。对微波处理功率，处理时阈，处裂方式等微波鞭处理条孛}：进行系 统的比较。在氯气或氮气保护下，微波袁火处理3分镑，并在处理居 的硅铜触体中加入小漫Cu20，在220℃下合成三烷氧基硅