光敏性偶氮苯聚合物波导光栅的制备及其特征.pdf

摘要 摘要 偶氮苯聚合物材料在光子学的方方面面均以表现出巨大的潜在应用，包括光 子产生、光子调控、光子转换、光子存储和光子传输等。在光子传输系统中，可 调的光纤器件如全光可调谐激光器，全光可调光分插复用器等是非常重要一部 分。本论文主要围绕基于偶氮苯基团的光致可逆顺反异构、光致物质迁移和光致 可逆的双折射这些特殊的光响应性能来制各波导光栅，特别是光纤波导光栅，为 偶氮苯聚合物材料用于智能化光可控光纤通讯系统提供必要的理论和技术支持。 本论文的研究内容从偶氮苯聚合物材料入手，充分研究它的光敏特性，再利 用逐点法，掩模法等刻写偶氮苯聚合物平面光栅。在此技术基础之上，进一步利 用振幅掩模法和干涉法在光敏性偶氮苯聚合物光纤上刻写光栅，并对光纤光栅特 性进行研究。全文主要内容包括以下几个方面： 1．首先概述了偶氮苯聚合物材料的基本特性，包括光致异构化、光致取向、 光致双折射、光致物质迁移和液晶性能，然后列举了偶氮苯聚合物材料在光子学 各领域(光子产生、光子调控、光子转换、光子存储、光子传输)的一些应用； 最后阐明本工作的目的意义——无损伤刻写出高双折射和全光可擦除的光纤光 栅，并且最终实现全光可调光学器件及系统。 2．介绍了表面等离子体共振技术用于研究和表征薄膜的折射率和膜厚的原 理；随后利用吸收光谱技术，分析了偶氮苯聚合物的光致异构化，进一步研究了 照射光强对光致异构化程度及速率的影响，异构化程度随着光强的增加而增加， 而异构化速率则随光强的增加线性增加；然后又利用表面等离子体共振技术分析 研究了光致异构化导致的折射率变化，并从实验和理论上建立了描述光致异构化 与光致折射率变化之间关系；再结合光强对异构化程度及速率的影响，讨论了光 强对光致折射率变化的大小及速率的影响；最后，基于偶氮苯聚合物光致折射率 的变化可以实现光开关功能，然后研究了光强对光开关的影响。 3．通过对影响偶氮苯聚合物光致取向和双折射的各种化学和物理因素的分 析，选用2．[4．(4．氰基偶氮苯基)苯氧基】乙基甲基丙烯酸酯(2CN)偶氮苯单体 作为制备偶氮苯聚合物光纤的材料，并在常温常压下，可用波长落在偶氮苯线性 吸收带或532nm线偏振的激光来刻写偶氮苯聚合物光纤光栅。为有效地提高光 致双折射及其稳定，今后可以考虑利用非共价型聚电解质，提高偶氮苯聚合物的 浓度，与其它长7【．共轭基团共聚形成协同作用和掺杂贵金属纳米粒子。利用线偏 光诱导双折射后，可以用非偏光或圆偏光进行“擦除’’，最终实现光致双折射的 可逆擦写。 摘要 4．利用逐点写入法，双频光栅法和振幅掩模法，在偶氮苯聚合物薄膜中刻 写长周期的一维或二维平面光栅，并对光栅的可擦除性、偏振性、稳定性、表面 形貌等做了进一步分析和研究。结果表明：目前比较适合用于偶氮苯聚合物长周 期光纤光栅刻写的方法有偏振直写法和振幅掩模法两种。 同时，利用相位掩模法和干涉法，在偶氮苯聚合物薄膜中刻写出短周期的表 面浮雕光栅和纯偏振光栅。结果表明：相位掩模法和干涉法均适用于偶氮苯聚合 物短周期光纤光栅的刻写。 5．利用Teflon绳技术制备出偶氮苯聚合物光纤，发现由于纤芯材料的再溶 解和扩散效应，偶氮苯单体掺杂聚合物光纤纤芯折射率比设计值小，并且纤芯比 设计值大；而利用扩散系数小的偶氮苯共聚物掺杂聚合物光纤纤芯折射率跟设计 值差别不大，但目前其导光性能较差。 随后利用振幅掩模法，在偶氮苯聚合物光纤中刻写出双折射长周期光纤光 栅，并从理论上分析了形成原因，长周期双折射光纤光栅与传统长周期光纤光栅 之间的差别，及其特殊应用。 最后利用两种周期性调制的干涉光场，在偶氮苯聚合物光纤中刻写Bragg光 纤光栅。其中，利用偏振态调制的光场，刻写出的偏振态调制的偶氮苯聚合物光 纤光栅，可以利用圆偏光擦除，并可以进行多次反复的擦写；而利用强度调制的 光场，光纤光栅也可擦写，但可重复性较差。该结果为偶氮苯聚合物光纤光栅用 于智能可调光通讯器件奠定了基础。 关键词：偶氮苯聚合物光致折射率变化光致取向光致双折射平面光栅聚合 物光纤长周期双折射光纤光栅可擦写光纤光栅 Ⅱ Abs仃act Abstract