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第6章 光波导的材料与制作技术 典型材料与制作技术 高分子薄膜波导 玻璃波导 非晶质硫硒碲化合物薄膜波导 LiNbO3波导 其它波导 薄膜淀积型波导用的SiO2/Si衬底 6.1 典型材料与制作技术 用于制作波导的不同材料，需要不同的制作技术。 材料与制作方法的选择需遵循下述原则： 波导层厚度和折射率的误差要小且均匀； 传输损耗小，即光学透明度好，表面凹凸小，光学散射少； 在晶体情况下，纯度和光轴符合要求； 强度大，与衬底附着性好； 工艺重复性好。 各种制作方法特点 旋转甩涂法：将高分子材料溶于溶剂做成粘稠的液体，把少量的液滴滴在衬底上，通过衬底的高速旋转而得到薄膜。 浸渍涂敷法：将高分子材料溶于溶剂做成粘稠的液体，把衬底浸入这种溶液中，然后将衬底提起，从而在衬底表面附着一层薄膜。 上述两种方法制作工艺最简单，成本最低，但是薄膜的纯度和均匀性也比较低。 加热蒸发淀积法：在高真空状态下，将蒸发材料加热使之蒸发，蒸汽分子到达衬底表面淀积下来，形成薄膜，所以该方法也称为真空蒸发镀膜法。随着蒸发的材料不同，加热的方法也不同。通常，低熔点的材料采用电阻加热蒸发法，高熔点的材料采用电子束加热蒸发法。 溅射法：使溅射气体（一般为惰性气体）通过放电而等离子化，位于等离子体中的靶材由于正离子的轰击，靶材的原子被打出，这些原子淀积在衬底上而形成薄膜。 溅射法特别适用于难于用加热蒸发淀积法制作薄膜的高熔点材料。 上述溅射法中采用的是不与靶材发生反应的惰性气体作为溅射气体，如果改用能够与靶材发生反应的气体作为溅射气体，就会得到二者的化合物薄膜，称为反应溅射法。 化学气相沉积法（CVD）：以某种气体为原料，通过化学反应，在衬底上淀积薄膜。 聚合法：将单体在真空中加热使之蒸发，同时通过加热、电子束照射、紫外线照射或者等离子体照射的方法，使单体蒸汽在衬底表面淀积下来并且聚合形成薄膜。 热扩散法：先将需要进行热扩散的材料淀积在衬底的表面，然后放入高温炉中，使淀积材料扩散进衬底中，在衬底表面形成一层折射率略高的扩散层。扩散材料随纵向深度的浓度分布是从大到小的平滑分布，又称为内扩散。 与内扩散法相对应的是外扩散法。外扩散法是将衬底加热，使衬底内部的物质往外部扩散出去，以制作高折射率层。 离子交换法：将衬底浸入某种溶液中，通过衬底中的离子与溶液中的离子之间的交换，在衬底的表面附近制作高折射率的方法。 离子注入法：将离子加速注入衬底引起晶格缺陷，从而得到高折射率层。 外延生长法：将晶格结构与衬底相同、晶格常数与衬底相近的材料，以液态（液相外延法）或者气态（气相外延法）与衬底晶体接触，就会在形成结晶状薄膜。 6.2 高分子薄膜波导 制作方法：浸渍法、旋转甩涂法（优） 膜层厚度受溶液黏度、离心甩胶机旋转速度影响，还与选用材料有关。 高分子波导折射率与入射光波波长有关。 高分子波导传输损耗是由于材料吸收、表面凹凸散射造成的，所以在制作过程中应注意让波导层的表面呈平滑状态。 用高分子材料制作波导的缺点是对温度变化的适应性差；优点是制作容易，特性也比较好。 6.3 玻璃波导 热离子交换法：将含有1价金属离子的中性盐加热至融化，将钠玻璃放入其中，浸泡一个特定时间，在玻璃表面附近形成钠离子被1价金属离子置换的高折射率层。 离子交换波导的折射率分布可近似看作突变型： 电场离子交换法：在热离子交换法基础上，再在玻璃上施加电场，会对离子扩散起促进作用，能够以相当高的重复率制作出折射率呈突变型分布的厚波导。 射频（RF）溅射法：在薄膜的折射率比衬底折射率略高的条件下，衬底与波导之间的组合几乎不受限制。 波导中被激励起的导模数量与膜层厚度之间的关系 薄膜波导的传输损耗取决于溅射速度的大小（速度越慢，损耗越小）和膜层厚度的均匀性（均匀性越好，散射越少，损耗越小），而膜层厚度的均匀性取决于靶材和衬底间的距离。 导模的m线 CVD法：制作出的玻璃薄膜波导损耗极低。将石英衬底放入CVD反应容器，用氧气作为运载气体，导入SiCl4、BBr3、GeCl4气体，通过氧化反应，在石英衬底表面上淀积SiO2-B2O3-GeO2玻璃微粒，然后将微粒透明玻璃化，就形成了波导。 6.4 非晶质硫硒碲化合物薄膜波导 非晶质硫硒碲化合物薄膜波导优点： 容易制作质地均匀的大面积薄膜； 利用调整组分配比的方法可以设定光学常数； 可见光、近红外区域损耗比较低； 自身折射率高，可以使用各种材料作为波导衬底； 声光效应品质因数高； 通过光或者电子束可以产生折射率的变化。 真空蒸发膜法： RF溅射法：RF功率不可过大，否则会引起靶材的熔融和蒸发。通过控制溅射时间可精确控制膜层厚度。 薄膜特性： 传输损耗随波导材料、衬底材料的不同，光波长的不同会有很大的差异，但就