多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构.docVIP

第３８卷第１０期 ２００９年１０月  　　　　　　　　　　　　  光　子　学　报 ＡＣＴＡＰＨＯＴＯＮＩＣＡＳＩＮＩＣＡ  Ｖｏｌ．８Ｎｏ．０ Ｏｃｔｏｂｅｒ２００９  多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构 朱冀梁，张恒，陈林森，李晓建，周小红 （苏州大学 信息光学工程研究所，江苏 苏州 ２１５００６） 摘　要：使用波长３５１ｎｍ 的半导体泵浦全固态脉冲激光器作为光源，经过位相光栅分束，形成干 涉光场，在硅表面直接刻蚀微结构，制作了周期为０．５μｍ，槽深可达５５ｎｍ 的一维微光栅和周期 为１．５μｍ，刻蚀深度４５ｎｍ 的正交微光栅结构．给出了微光栅形貌结构的扫描电子显微镜和原子 力显微镜的测量结果．正交微光栅的一级衍射效率在１．％～６．％之间．该研究是改变硅表面微 结构，优化硅材料特性的一种新方法，并扩展了大功率激光刻蚀在表面微加工领域的应用． 关键词：光栅微结构；刻蚀；衍射效率；硅 中图分类号 ＴＮ２４９；ＴＨ７４４．　　　文献标识码： 　　　文章编号：００４４２１３（００９）０２４６３５  ０　引言 随着激光技术的不断成熟和大规模集成电路的 发展，激光光刻技术有了长足的进步并且广泛应用 于工业加工的各个领域［１７］．许丽［２］，王海旭［３］等 利 用飞秒激光与其诱导出的等离子波相干作用在单晶 硅表面生成了纳米光栅结构．Ｔ．Ｋｏｎｄｏ等［６］利用衍 射分束 器 ＤｉｆｒａｃｔｏｎＢｅａｍ Ｓｐｌｔｅｒ，ＤＢＳ）实 现 了 对 复 杂 的 ２Ｄ 或 者 ３Ｄ 周 期 结 构 的 加 工．美 国 ［］ 加工条件获取了亚微米尺寸的金字塔结构．硅以其 特有的光电 特 性，受 到 越 来 越 多 的 关 注［２，４，８］，高 衍 射效率的表面微结构可以增强硅材料对光能的利用 效率，二维微光栅结构能够减少表面反射率［９］．因此 改变硅表面微结构的实验研究在当今的太阳能电池 研发领域有着尤其重要的意义． 激光刻蚀通常是利用高功率激光作用于材料表 面，材料吸收激光能量而快速升温，发生熔融、气化 等物理过程，使部分材料物质被去除，由此来改变物 体的表面形貌．目前，很多激光微加工方法在刻蚀过 程中需要各种掩膜，工序较多，成本较高；加工结构 的微细程度也受限制于单束激光产生的光斑尺寸． 这些方法［１１～１５］大多使用短 波 长 的 准 分 子 激 光 或 飞 秒激光，对环境的要求高，难以应用于工业化生产． 本文采用半导体泵浦全固态脉冲激光器（Ｄｉｏｄｅ ＰｕｍｐｅｄＳｏｌｄＳｔａｔｅＬａｓｅｒ ＤＰＳＳＬ）作为光源，分别 用双光束和四光束进行了干涉刻蚀实验，在硅材料 表面制作了一维和二维正交微光栅结构．这种在硅  表面直接进行微加工的方法，工艺简洁，运行效率和 刻蚀微结构精细程度较高． １　光刻系统和实验 实验所用光刻系统如图１．其中 ＤＰＳＳＬ 激光器 的参量 为 波 长 ３５１ｎｍ、脉 冲 宽 度 ２０ｎｓ、重 复 频 率 １ｋＨｚ、输出 脉 冲 能 量 ０～２ ｍＪ，出 射 光 束 直 径 为 ０． ｍｍ． 图１　光刻系统 Ｆｉｇ．　Ｄｉｇｒａｍｏｆｏｐｔｃａｌｔｈｏｇｒａｐｈｉ ｓｙｓｔｅｍ 光束 整 形 系 统 πＳｈａｐｅｒ将 激 光 呈 高 斯 分 布 的 能量转为矩形分布，入射波形和出射波形如图２． 图２　光束整形 Ｆｉｇ．　Ｄｉｇｒａｍｏｆｓｈａｐｉｎｇｔｈｅｂｅａｍｓｚｅ     国家 ８６３ 项 目 （００６ＡＡ０４Ｚ３１８）和 国 家 自 然 科 学 基 金 （０７７７０３９）资助 Ｔｅ：５１２Ｅｍａｌ：ｕｌａｈｏｔｍａｌ．ｏｍ 光束 通 过 置 于 透 镜 Ｌ１ 前 焦 面 上 的 方 孔 光 阑 Ａｐｅｒｔｕｒｅ 后，经 双 远 心 投 影 缩 微 透 镜 组 Ｌ１ 和 Ｌ２ （ Ｌ１ ＝４犳Ｌ２ ，缩小倍率为 ４．）缩小得方形光点．位于 收稿日期：００８ １０ ２２ 修回日期：００８ １２ ３１ 透镜 Ｌ 前焦面上的分束器 Ｂｅａｍｓｐｌｔｅｒ中放置了 ２４６４  光　子　学　报  ３８卷  不同空间频率的光栅或光栅组，光栅的衍射满足光 栅方程 Λｓｎθ＝犓λ （） 式中： 是 光 栅 常 量， 是 衍 射 角， 是 衍 射 级 数， 为激光波长．选择其中的 ±１ 级衍射光作为干涉 光 束，经消象差成像系统（ ３、 ４）在硅片表面（位于 Ｌ 前焦面）形成干涉光场，由式（ ）可计算出干涉条纹 的周期 犱＝λ／２ｓｎ （） 式中β为光束 干 涉 角， 为 条 纹 的 周 期．透 镜 Ｌ 和 Ｌ 的 焦 距 相 等， ＝θ，即 犱 由 分 束 器 内 光 栅 周 期 决定． 实验材 料 为 单 晶 硅，表 面 光 洁 度