磁控溅射ta-mo高温涂层制备工艺和性能的研究-study on preparation process and properties of ta - mo high temperature coating by magnetron sputtering.docxVIP

II磁控溅射 Ta-Mo 高温涂层的制备工艺和性能的研究摘 要随着现代工业特别是航空、航天工业的快速发展，Ta 和 Mo 系列涂层在耐高温 性能及力学性能的优势越来越引起人们的关注。以往较少地对 Ta-Mo 涂层生长过程 进行研究和探索，更缺乏在 Ta-Mo 涂层微观结构和各种性能之间的联系上进行深刻 地了解和探究。本论文研究了 Ta-Mo 涂层溅射沉积的微观过程分析、涂层生长过程 及理论的探索、涂层微观结构和成分与性能之间的规律性联系等方面内容，增强 Ta-Mo 涂层性能应用研究的科学理论基础，以期为高性能 Ta-Mo 涂层的制备提供依 据。本课题采用磁控共溅射法制备 Ta-Mo 涂层，并分别在沉积时间、溅射气压、基 底温度、第三组元和溅射功率上进行参数优化，研究各种参数条件下 Ta-Mo 涂层微 观结构、形貌、成分、生长取向的规律性变化；同时研究了各种参数条件下 Ta-Mo 涂层沉积速率、显微硬度、致密性及膜基结合性能等内容，分析并总结了 Ta-Mo 涂 层微观结构和各种性能之间的联系。不同溅射时间下涂层的形核和生长依次经历了小岛形核阶段、小岛结合阶段、连 续涂层阶段和晶粒长大阶段等四个阶段，涂层的颗粒平均粗糙度随着基底加热温度的 升高呈现出复杂的变化关系。溅射气压从低气压（0.2Pa）增加到高气压（1Pa、和 5Pa）， Ta-Mo 涂层的形核模型从多原子形核合并模型发展到多