毕业设计（文）-多晶硅工艺生产技术.doc

多晶硅工艺生产技术PAGE PAGE II多晶硅工艺生产技术 姓名： 日期：2012年12月11日目 录 TOC \o 1-3 \u 目 录 PAGEREF _Toc342980584 \h I摘 要 PAGEREF _Toc342980585 \h II第一章 多晶硅的认识和产品的用途 PAGEREF _Toc342980586 \h 1一、什么是多晶硅 PAGEREF _Toc342980587 \h 1二、什么是半导体 PAGEREF _Toc342980588 \h 1三、纯度表示法 PAGEREF _Toc342980589 \h 1四、多晶硅产品的用途 PAGEREF _Toc342980590 \h 1第二章 多晶硅的生产方法 PAGEREF _Toc342980591 \h 2一、锌还原法（杜邦法） PAGEREF _Toc342980592 \h 2二、四氯化硅氢还原法（贝尔法） PAGEREF _Toc342980593 \h 2三、三氯氢硅热分解法（倍西内法） PAGEREF _Toc342980594 \h 3四、三氯氢硅氢还原法（西门子法） PAGEREF _Toc342980595 \h 3五、硅烷热分解法 PAGEREF _Toc342980596 \h 3六、改良西门子法 PAGEREF _Toc342980597 \h 3第三章 改良西门子法工艺 PAGEREF _Toc342980598 \h 3一、发展历程 PAGEREF _Toc342980599 \h 3二、改良西门子法归纳起来有三大特点 PAGEREF _Toc342980600 \h 4三、工艺生产化学反应方程式 PAGEREF _Toc342980601 \h 4第四章 多晶硅生产的工艺过程 PAGEREF _Toc342980602 \h 4一、合成部分 PAGEREF _Toc342980603 \h 41、液氯汽化 PAGEREF _Toc342980604 \h 42、HCL合成 PAGEREF _Toc342980605 \h 63、三氯氢硅合成 PAGEREF _Toc342980606 \h 8二、提纯部分 PAGEREF _Toc342980607 \h 11三、氢化还原部分 PAGEREF _Toc342980608 \h 151、还原工序 PAGEREF _Toc342980609 \h 152、四氯化硅氢化 PAGEREF _Toc342980610 \h 18四、回收部分 PAGEREF _Toc342980611 \h 21五、公用辅助部分 PAGEREF _Toc342980612 \h 27第五章 多晶硅工艺的主要控制 PAGEREF _Toc342980613 \h 27一、还原炉的自动和联锁控制 PAGEREF _Toc342980614 \h 27二、尾气回收吸附塔的顺序控制 PAGEREF _Toc342980615 \h 32第六章 结束语 PAGEREF _Toc342980616 \h 48摘 要多晶硅是硅产业链中一个极为重要的中间产品，主要用作半导体原料、最终用途主要是生产集成电路和太阳能电池片等，多晶硅行业的大力发展对普及太阳能的利用和半导体的利用有着很大的推动作用。本文主要是对多晶硅的工艺生产介绍，首先通过对多晶硅产品的认识和用途进行了初步的了解，再通过对多晶硅的发展历程和当前多晶硅生产的主流工艺进行介绍，进而通过对多晶硅生产过程各个工段的工艺和重点控制介绍的方法，详尽的阐述了多晶硅的生产工艺之生产的闭环性和控制的复杂和稳定性。通过这样的说明，使得大家最终了解多晶硅，认识多晶硅和多晶硅的生产工艺，从而了解多晶硅生产过程。关键字：多晶硅、改良西门子法、还原炉第 PAGE 48 页 共 NUMPAGES 51 页第一章 多晶硅的认识和产品的用途一、什么是多晶硅我们所说的多晶硅是半导体级多晶硅，或太阳能级多晶硅，它主要是用工业硅或称冶金硅（纯度98-99%）经氯化合成生产硅氯化物，将硅氯化物精制提纯后得到纯三氯氢硅，再将三氯氢硅用氢进行还原生成有金属光泽的、银灰色的、具有半导体特性产品，称为半导体级多晶硅。二、什么是半导体所谓半导体是界于导体与绝缘体性质之间的一类物质，导体、半导体与绝缘体的大概分别是以电阻率来划分的，见表1。表1 导体、半导体与绝缘体的划分名 称电 阻 率（Ω.Cm）备 注导体＜10-4＜0.0001Cu, Ag, AL等半导体10-4~1090.0001~1000000000Si, Ge, GaAs等绝缘体＞109＞1000000000塑料，石英，玻璃