晶体薄膜衍衬成像分析课件.ppt

第十一章 晶体薄膜衍衬成像分析 ;§11-1 概 述（2）;§11-1 概 述（3）;第 二 节 薄 膜 样 品 的 制 备 ;一、薄膜样品应具备的基本要求（1）;一、薄膜样品应具备的基本要求（2）;一、薄膜样品应具备的基本要求（3）;透射样品制备工艺示意图;二、薄膜制备工艺过程（1） ;;二、薄膜制备工艺过程（2）;;;磨料的类型和尺寸;;;二、薄膜制备工艺过程（3）;二、薄膜制备工艺过程（4）;二、薄膜制备工艺过程（5）;二、薄膜制备工艺过程（9）;;;二、薄膜制备工艺过程（6）;二、薄膜制备工艺过程（7）;二、薄膜制备工艺过程（8）;电解抛光仪;电解抛光仪;二、薄膜制备工艺过程（8）;;离子减薄仪;离子减薄仪;;第 三 节 衍 衬 成 像 原 理 ;质厚衬度;衍射衬度成像原理（1）;;衍射衬度成像原理（2）;衍射衬度成像原理（4）;衍射衬度成像原理（5）;衍射衬度成像原理（6）;衍射衬度成像原理（7）;衍射衬度成像原理（8）;明场像和暗场像 ;;明、暗场像实例 ;;衍射衬度成像原理（9）;衍射衬度成像原理（10）;第四节 消 光 距 离 ;X射线衍射与电子衍射比较;消光距离（1） ;消光距离（2）;消光距离（3）;消光距离（4）;消光距离（4）;消光距离（5）;几种晶体的消光距离;消光距离随加速电压的变化;第五节 衍衬运动学简介 ;衍衬运动学简介;衍衬运动学简介;衍衬运动学简介;衍衬运动学简介;一、衍衬运动学理论的基本假设;一、衍衬运动学理论的基本假设（1） ;一、衍衬运动学理论的基本假设（2）;一、衍衬运动学理论的基本假设（3）;一、衍衬运动学理论的基本假设（3）;一、衍衬运动学理论的基本假设（4）;二、理想（完整）晶体的衍射强度;二、理想（完整）晶体的衍射强度（1） ;二、理想晶体的衍射强度（2）;二、理想晶体的衍射强度（3）;二、理想晶体的衍射强度（4）;三、理想晶体衍衬运动学方程的应用;（一）等厚条纹;（一）等厚条纹;（一）等厚条纹（厚度消光条纹）;等厚条纹（Thickness Contour）;晶界和相界的衬度;晶界和相界的衬度;（二）等倾条纹;（二）等倾条纹 ;（三）等倾条纹;（三）等倾条纹衍衬成像原理;（三）等倾条纹衍衬成像原理;（三）等倾??纹衍衬成像原理;等倾条纹;（二）倒易杆长度的解释;四、非理想（缺陷）晶体的衍射衬度;（一）缺陷矢量 R 的引入;（二）缺陷晶体的衍射衬度;第七节 晶体缺陷分析;§11-7 晶体缺陷分析（1） ;§11-7 晶体缺陷分析（2）;§11-7 晶体缺陷分析（3）;§11-7 晶体缺陷分析（4）;§11-7 晶体缺陷分析（5）;§11-7 晶体缺陷分析（6）;;四、位错的衬度;位错的衬度;位错的衬度;位错的衬度;位错的衬度;位错的衬度;刃型位错衬度的产生及其特征;位错衬度;位错衬度;五、第二相粒子衬度;第二相粒子衬度;第二相粒子衬度;第二相粒子衬度;