位错的观测.pptVIP

位错的观测 一．浸蚀坑法 位错周围有点阵畸变，能量高，在相应化学浸蚀时出现浸蚀坑，原理如图。? 试验观察的试样 （111）面零散位错，呈三角形； （100）面零散位错，呈圆形、椭圆形； 位错塞积（排） 小角晶界 层错线 空位及空位团 星形结构，宏观（肉眼）观察呈星形，微观观察呈空位团。 二、电子显微镜观察 1、直接观察 高分辨率电子显微镜 （透射电镜）的分辨率 已达到小于0.2nm，所 以可用电子显微镜直接 观察金属中的位错。 2．衍衬法 高速电子束透过金属薄膜（?100-500nm）时，要发生衍射。 电子显微镜成像时，物镜光阑基本上把衍射部分挡住，使它不能成像。成像的亮度决定于透射电子束的强度。 当晶体中有位错等缺陷存在时，电子束通过位错畸变区可产生较大的衍射，使透射束较其余区域弱，所以位错在成像中表现为黑色线条。 薄膜厚约200nm，位错从薄膜的顶部一直延伸到底部。 两组位错，每个位错产生一条黑线，线的宽度一般为10nm，比实际位错要宽。 衍衬法的优点：试样制备容易；分辨率约1.5nm已足够；观察视域大，看到的范围广；还可用于观察变形时的位错运动及它们的交互作用等。 缺点：看不出位错的微观结构。 * * 投影图 位错分布图