以边界元素法研究化学机械研磨制程载具膜背压分布形式对晶圆应力.PDF

德霖學報「第 28 期」 以邊界元素法研究化學機械研磨製程載具膜背 民國 2015 年 1月 壓分佈形式對晶圓應力和表面不平坦度的影響 以邊界元素法研究化學機械研磨製程載具膜背壓分 佈 形式對晶圓應力和表面不平坦度的影響 1 2 3 林有鎰 邱傳聖 李冠陞 1 德霖技術學院機械工程系暨創意產品設計系教授 2 元智大學機械工程學系副教授 3 元智大學機械工程學系研究生 摘要 本文首先推導出晶圓上某 一點的相對速度 ，考慮晶圓和研磨墊的轉速相同，則相對速度 成為一個定 值且研磨墊為一很大的平整平面，則建立一套二維準靜態的分析模式。其次， 以 Brebbia 和 Dominquez 推導 Somigliana 恆等式為基礎，導入位移和分佈力的基本解，在忽略體 力作用和考慮定元素的條件下， 經離散化後而得到包括晶圓承載器、載具膜、晶圓、研磨墊與維持環 之邊界積分統御方程式。最後，考 慮同時承受晶圓承載器負荷、載具膜背壓和維持環負荷而建立一套包含施加 不同載具膜背壓分佈形式的 化學機械研磨製程之 二維軸對稱準靜態邊界元素模式，探討全域載具膜背壓分佈和局部載具膜背壓分佈 對晶圓 表面 von Mises應力和 不平坦度的影響 ，結果顯示 (1)晶圓表面 von Mises應 力分佈與實驗的表面材 料移除率在靠近晶圓邊緣處皆有陡昇的突然變動，然後下降的現象，因此利用邊界元素法得到的 von Mises 應 力 ，來預測晶圓表面之材料移除率是可行的，(2)在維持環晶圓承載器負載比固定為- 0.8 、晶圓與維持 環間距固定為 0.069in. ，研磨墊彈性模數固定為333psi的條件下， 加入局部載具膜背壓得到的晶圓表面 平 均 von Mises應 力和最大 von Mises應 力均小於全域載具膜背壓 ，此外對不平坦度 而言亦有相同現象。 關鍵字： 化學機械研磨製程、維持環、載具膜背壓、邊界元素模式、 von Mises應 力 、不平坦度 1 德霖學報第 28 期 A Study on the Effect of the Back Pressure Distribution Forms of the Carrier Film on the Wafer Stress and the Nonuniformity of the Wafer Surface Using Boundary Element Method for a Chemical Mechanical Polishing Process Yeou-Yih Lin 1 Chuan-Sheng Chiou 2 Kuan-Sheng Lee 3 1 Professor, Department of Mechanical Engineering and Department of Creative Product Design, De Lin Institute of Technology 2 Associate Professor, Department of Mechanical Engineering, Yuan Ze University 3 Graduate Student, Department of Mechanical Engineering,