高分子自组装膜于矽晶片上的制造与生物应用分析-eTop-工程科技.PDF

行 精 類 行 年年 行 立 參理 陸 理 利 年 年 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫成果報告 ※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※ ※ ※ 圖案化聚甲基丙烯酸乙酯高分子刷在矽晶片表面上 ※ （計畫名稱） ※ 的製備與應用 ※ ※ ※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※※ 計畫類別：█個別型計畫 □整合型計畫 計畫編號： NSC 96-2221-E-011-062- 執行期間：九十六 年 八 月 一日 至九十七 年 七 月 三十一日 計畫主持人： 陳建光 教授 共同主持人： 計畫參與人員：陳宗彥 兼任助理 ( ) 本成果報告包括以下應繳交之附件： █赴國外出差或研習心得報告一份 □赴大陸地區出差或研習心得報告一份 □出席國際學術會議心得報告及發表之論文各一份 □國際合作研究計畫國外研究報告書一份 執行單位：國立臺灣科技大學高分子工程系 中 華 民 國 九 十七 年 七 月 三十一 日 行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 圖案化聚甲基丙烯酸乙酯高分子刷在矽晶片表面上的 製備與應用 Fabrication and analysis of bio-compatible chip 計畫編號： NSC 96-2221-E-011-062- 執行期間：九十六 年 八 月 一日 至九十七 年 七月 三十一日 主持人：陳建光 國立台灣科技大學高分子工程系 計畫參與人員：陳宗彥 國立臺灣科技大學高分子工程系 中文摘要 (關鍵詞 ：原子轉移自由基聚合法、高分子刷、自組裝、馬鐵蛋白) 本研究利用原子轉移自由基聚合法（atom transfer radical polymerization ，ATRP ），在矽晶 片上接枝聚合聚甲基丙烯酸乙酯 poly （2-Hydroxyethyl methacrylate ，PHEMA ）高分子刷；首 先利用電子束微影（electron-beam lithography ），於矽晶圓表面製造出光阻圖案，接著進行氧 電漿處理，使無光阻區之矽表面產生氫氧基，然後利用此氫氧基，於表面進行起始劑自組裝 反應，使矽晶片表面自組裝 11-(2-Bromo-2-methyl)propionyloxyundecenyltrichlorosilane單層 膜，此為原子轉移自由基聚合反應的起始劑，接著加入氯化亞銅、溴化銅、 2,2’-Bypyridine 以及甲基丙烯酸乙酯，分別做為金屬觸媒、螯合劑、接枝單體，進行原子轉移自由基聚合。 使用化學分析電子光譜儀（ electron spectroscopy for chemical analysis ，ESCA ），分析起 始劑自組裝單分子層與 PHEMA高分子刷之表面元素；使用橢圓測厚