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物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao)
December Acta Phys. -Chim. Sin. 2016, 32 (12), 2905-2912 2905
[Article] doi: 10.3866/PKU.WHXB201609201
Se 掺杂对单层MoS 电子能带结构和光吸收性质的影响
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李 刚 陈敏强 赵世雄 李朋伟 胡 杰 桑胜波* 侯静静
(太原理工大学信息工程学院,新型传感器和智能控制系统教育部重点实验室微纳系统研究中心,太原030024)
摘要:基于密度泛函理论的第一性原理方法,计算了Se 掺杂单层MoS 能带结构和光吸特性,并分析了对其
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光解水性质的影响。结果表明:本征单层MoS 为直接带隙结构,禁带宽度为1.740 eV,导带底电位在H /H
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还原势之上0.430 eV,价带顶电位在O /H O 的氧化势之下0.080 eV,具有可见光催化分解水的能力,但氧
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化和还原能力不均衡,导致单层MoS 作为光催化剂分解水的效率不高。通过Se 掺杂计算发现,单层MoS
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的禁带宽度变为1.727 eV,相应的光吸收谱变化幅度几乎不变,且体系的形成能较低,表明其热力学稳定性
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良好。然而,导带底电位调整到H /H 还原势之上0.253 eV,价带顶电位处于O /H O 的氧化势之下0.244
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eV,平衡了氧化与还原能力,单层MoS 可见光催化分解水的效率得到提高。
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关键词:单层MoS ;掺杂;光解水;第一性原理
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中图分类号:O641 ;O646 ;O649
Effect of Se Do
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