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刻蚀及二次清洗药品性质和使用 2011.3.17 太阳能电池工艺常用化学药品 乙醇（C2H5OH） 氢氧化钠（NaOH） 盐酸（HCl） 氢氟酸(HF) 异丙醇（IPA ) 硅酸钠（Na2SiO3） 氟化铵（NH4F） 三氯氧磷（POCl3） 氧气（O2） 氮气（N2） 三氯乙烷（C2H3Cl3） 四氟化碳（CF4） 氨气（NH3） 硅烷（SiH4） 平安就是美丽 平安就是长寿 平安就是财富 平安就是智慧 为了加强电池事业部一线生产人员的安全意识，提升我们对电池片生产整个工艺流程的学习，所以我们必须对我们身边的各类化学药品有更充分的了解与认识。 一、危险化学品的概念 二、危险化学品的危险性 晶体硅SI 1、硅的存在： 在地壳中含量居第二，没有游离态，只有化合态。硅有两种同素异形体，晶体硅（单晶、多晶）和无定形硅。 2、物理性质： 灰黑色，硬而脆，有金属光泽的固体，不溶于水，熔点高，硬度大，仅次于金刚石。 3.化学性质： （不活泼） 3Si+2NaOH+H2O=NaSiO3+2H2↑ 4、硅的用途: 半导体、合金、耐酸刚、变压器铁心、太阳能电池板。 二氧化硅SIO2 1、物理性质： 无色、坚硬难容、不容于水的固体，有晶体和无定形。 2、化学性质： （1)常温下与氢氧化钠反应 SiO2+2NaOH=NaSiO3+H2O(生成胶粘剂） （2）常温下易与氢氟酸反应SiO2+4HF=SiF4+2H2O 3、用途： 制光导纤维、玻璃仪器、耐高温材料、装饰品、光学仪器。 四氟化碳CF4 1、物理性质： 无色无臭气体，熔点-183℃、沸点-128℃，不溶于水，易溶于有机溶剂。 2、化学性质: CF4→CF3*+CF2*+CF*+C*+F* 若在CF4中掺入O2能加快活性氟原子的产生。 CF4+O2=F*+O*COF*+COF2*+CO+… 3、主要用途： 用作低温致冷剂、集成电路的等离子干法刻蚀。 4、注意事项： 它不燃烧，但遇高温，容器内压增大，有开裂和爆炸的危险，禁忌与强氧化剂、易燃或可燃物存放在一起。应储存于阴凉、通风仓库内，温度不宜超过30℃，远离火种、热源。防止阳光直射。 氧气O2 1、物理性质： 无色无味不易溶于水，沸点-183℃，密度比空气略重。 2、化学性质： 是一种氧化剂，能跟许多金属、非金属单质、有机化合物发生氧化反应。 SI+O2=SIO2 SIH4+2O2=SIO2+2H2O 3、用途： 动物呼吸、医疗、气焊、气割、登山、潜水、火箭发射助燃剂。氧气本生不能燃烧，但能支持燃烧。 4、注意事项: 本品应储存于低温绝热槽罐内，经常检查安全阀、爆破片是否完好，与可燃、易燃物保持安全距离，钢瓶旁禁火，保存阴凉通风，温度不超过30℃，防止阳光直射。 5、一般可燃性物质燃烧的外因是？ A温度要达到着火点 B要跟氧气接触 破坏其中任意一个条件就能够灭火 氮气N2 1、物理性质： 无色无味的气体，密度比空气略轻，难溶于水。 2、化学性质： （很稳定，几乎跟惰性气体一样） a.高温高压催化剂合成氨： N2+3H2=2NH3 b.高压放电或高温下与氧气化合： N2+O2=2NO(无色、有毒、不溶于水） c.常温下NO极易氧化 2NO+O2=2NO2(红棕色、有毒、易溶于水） 3、氮气的存在与制取 占空气体积分数78%，工业上制取氮气用空气液化分离法。 4、N2的用途 可用于合成硝酸、氨气。驱赶设备中的有毒气体，稀释气体浓度和用保护气体。 去PSG 氢氟酸HF 1、物理性质： 氢氟酸是氟化氢的水溶液，为无色透明易挥发的液体。有刺激性气味。相对密度为1.15-1.18g∕cm3.沸点112.2℃，市售通常浓度约为47%。 2、化学性质： 具有弱酸性，腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），反应方程式如下 SiO2+6HF→H2SiF6+2H2O 能腐蚀硅片Si+4HF=SiF4+2H2 3.用途： 由于氢氟酸溶解氧化物的能力强，氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物。 4.注意事项 储存于阴凉、通风仓库内，远离火种、热源，防止阳光直射，应与碱类、金属、可燃物、发泡剂等分开存放，可能接触其蒸