微电子工艺学第六章光刻与刻蚀工艺.ppt

李乃平：P164～5。 刻蚀铬膜：李乃平P172。 1、反差、过渡区：李乃平P169。 2、掩模版清洗方法：P238。 3、缺陷密度：施敏P58。 1、用蓝光波长计算：投影曝光系统的R可达亚微米水平。 2、数值孔径又叫做镜口率，简写为N.A。它是由物体与物镜间媒质的折射率n与物镜孔径角的一半（a\2）的正弦值的乘积，其大小由下式决定：N.A=n*sin a/2数值孔径　　数值孔径简写NA(蔡司公司的数值孔径简写CF)，数值孔径是物镜和聚光镜的主要技术参数，是判断两者（尤其对物镜而言）性能高低(即消位置色差的能力,蔡司公司的数值孔是代表消位置色差和倍率色差的能力),的重要标志。其数值的