第一组主笔人陈逸豪王启佑组员陈弘根一目的二学习.DOCVIP

第一組 主筆人：陳逸豪、王啟佑 組員：陳弘根 實驗目的 學習Fabry-Prot 干涉儀的操作及原理 觀察He-Ne Laser 頻寬 觀察都卜勒加寬效應 實驗內容 調整干涉儀共振腔兩平面,使兩者平行。 利用Fabry-Perot頻譜儀，找尋雷射的頻率分佈，求出雷射光束兩波長的頻率差及在一固定偏壓下的解析度(resolution)。 計算都卜勒加寬效應。  實驗器材 雷射光源 Optical isolator (光阻隔器) Fabry-Perot 干涉儀 Ramp Generator 示波器 detector 匯聚透鏡  原理補充 平面反射鏡 原理： 雷射(LASER)：雷射是由Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation五個英文字的字首組合命名的。它的意義為：著激發放射方式，使得光產生放大。因此雷射又稱為激光。 雷射組成的三個要素為：（1）活性介質(active medium)－具有居量反轉特性的介質。（2）幫泵能源(puming sources)－提供能量使得處於低能階的原子或分子被激發到高能階，以使原子數目分佈達到居量反轉。（３）光腔（optical resonator）-放射出來的光可重複來回地在活性介質內傳振燙，這種過程又可稱為光程反饋（optical feedback）。茲分別敘述如下。 活性介質：一般的材料都會吸收入射光波，使得光強度因而減弱，這種材料稱為被動材料（passive）。但有些材料若被適當的能源所激發後，就具有將入射光波放大的能力，所以稱為活性。雷射器件就是使用這種活性介質來產生雷射光。 雷射材料的種類很多，依照所使用的活性介質型式可分為： 氣體雷射：所使用的活性介質有He-Ne混合氣，氫離子，CO2－He－N2混合氣等 液體雷射：所使用的活性介質有染料RB(Rhodamine B)，染料Rhodamine 6G，染料Arcidine red等。 固體雷射：所使用的活性介質有稀土族，紅寶石，石榴石晶體，玻璃等。 半導體雷射：所使用的活性判質有GaAs，InGaAsp，GaAlAs等。 一、三能階活性介質系統 如前面所銻述在二能階系統，不論何種幫泵能源，皆無法達到居量反轉，只有迂迴其他能階，才能成立，一般而言，分為三能階系統和四能階系統。首先討論三能階活性介質系統如下所述： 　　典型的三級系統，如圖３－２９所示。紅寶石雷射就是這種系統。它是利用光學幫泵來實現粒子數反轉的。在１９５６年由Bloembergen所提出的。在熱平衡下，粒子數分佈依波茲曼定律，如圖３－２６（a）所示。如果原子系統受到很強的激勵，如被Xe閃光燈照射，財處於基態E0的粒子受激吸收躍至E３能級，躍遷至E３的粒子可以多種途徑衰降到低能級去，其中以無輻射形式降至E２的可能性最大，即E3→　E２　的躍遷機率比其它過程的機率都大，如圖３－２６（b）所示。如果泵浦強度只夠大，則可能產生粒子數反轉，如圖３－２６（c）所示。為了容易地達到這種反轉，就必須有二個條件，一個就是E3→　E２的躍遷極快，另一個就是粒子處於E２　的壽命很長。這樣就有利於E２　粒子數的累積，因此E２　的能階稱為亞穩態（metastable state） 三能階幫泵系統需要有很強的幫泵，因為雷射躍遷的下能階是基態，為了達到居量反轉，必須將一半以上處於基態的粒子幫泵到上能階才行。 二、四能階活性介質系統 如圖３－３０所示，為四能階系統，其幫泵強度較為小，因為雷射躍遷的下能階並非基態。其原理如下所述。 基態粒子經泵浦後激發至E４的粒子很快地衰落至E３的，而E３是一個亞穩態，因此在E３上可以得到粒子數的累積，如果E４→E3和　E２→E１的躍遷速率都很快。而E３→E２的躍遷速率很慢，則粒子反轉就很快在E３和E２之間達到。但是由於E２上的粒子數不會累積許多，因此在這樣的四能級系統中若要達到粒子數反轉，不需要在E3上累積很多的粒子，只要比E3上累積很多的粒子，只要比E２多就可以了，因此四能級系統所需的泵浦強度要小的多了。 構成四階系統的條件是，生命期３２、２１都很短，３２大於２１、４３。就一般氣體雷射如氬子、氦鎘雷射，３２約為２１的一百倍，而且低能階E２與基能E１的能量間隔很大；E２→E１＞＞KBT。因此，低能階幾手沒有原子存在，累積濃度△N＝N3－N2，當泵浦強度很小時，△N為正值了，而滿足了居量反轉的條件，所以這種效率要比三階系統高出許多。因此，在選擇活性材料時，最好選擇具有四階系統特性的材料。 　生命期條件和激發機構可以決定雷射為連續輸出或以脈波（pulse）輸出。若高能階的生命期３２大於低能階的生命期（２１），則在足夠幫泵速率下，可以維持連續波的輸出，例如氦氖、二氣化碳、釹石榴石雷射。 雷射模態 光學