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对LPCVD设备控制系统的设计-电子与通信工程专业论文

DESIGN THE CONTROL SYSTEM OF LPCVD (LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) EQUIPMENT A Master Thesis Submitted to University of Electronic Science and Technology of China Major: Master of Engineering Author: Shen Chengzhi Advisor: Yu Mengxia School : School of Physical Electronics 独创性声明 本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作 及取得的研究成果。据我所知,除了文中特别加以标注和致谢的地方 外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含为 获得电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的材料。与 我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的 说明并表示谢意。 作者签名: 日期: 年 月 日 论文使用授权 本学位论文作者完全了解电子科技大学有关保留、使用学位论文 的规定,有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁 盘,允许论文被查阅和借阅。本人授权电子科技大学可以将学位论文 的全部或部分内容编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或 扫描等复制手段保存、汇编学位论文。 (保密的学位论文在解密后应遵守此规定) 作者签名: 导师签名: 日期: 年 月 日 摘要 本文介绍了一台进口的LPCVD设备,它的型号是ACS514。它由三套炉管系统 组成;它使用氨气、SiH2Cl2、TEOS和SiH4 等特气。这台LPCVD设备故障率高。 对这台设备故障的统计显示,该设备的控制系统故障最多,占总故障的 38% 。为 了减少这台设备的故障率,提高设备的稳定性和可靠性,需要对这台设备的控制 系统进行重新设计。 本文的设计是在 ACS514 设备上做的。去掉了这台设备控制系统的大部分部 件,只保留了一少部分部件。保留的部件包括加热触发部件和一些智能控制部 件。对 ACS514 设备一些电路图进行了分析,并对该设备的输入输出量进行了统 计。选择 PLC 模块,对 PLC 模块输入输出点进行了定义,并绘制了多张 PLC 模 块引脚连接图。确定 LPCVD 设备的控制方式。为了简化 PLC 与微机的通信,定 义了 V 存储区里一些变量。使用 PLC 来控制温度,使用 PLC 里的 PID 指令向导 生成温度控制的 PID 程序,使用 PID 参数自整定功能确定了 PID 参数。用梯形图 和顺序控制法设计 PLC 用户程序,包括子程序和半自动顺序控制程序。使用 LabVIEW 软件设计微机上的设备控制软件。用 NI 公司 485 通信卡连接微机与 PLC,该卡是带隔离功能的 PCI 接口通信卡。 本文在设计LPCVD设备控制系统硬件时,针对温度控制的要求,设计了热偶 信号调理接口板。在热偶接口板电路图里,使用 5B47 对R型热偶信号进行隔离和 信号调理。5B47 的输出信号接到放大倍数可调的放大器,然后接到一个差分元件 SN7518,该元件将信号转换成差分信号输出。这种设计,信号的抗干扰能力好。 LPCVD设备经常出现真空室的真空度渐变问题,这一般是由于真空管道壁上会淀 积上一些反应生成物,真空管道逐渐变细引起的。本文在控制系统设计时加装一 个压强控制器,保证了做工艺时炉管真空度的稳定,提高了产品批次的均匀性, 从而提高了产品的质量。增加了炉管压强传感器,从而加强了对进出舟电机控制 板的保护,降低了LPCVD设备的故障率。 这台设备在新的控制系统的控制下运行了半年时间,设备故障率明显减少。 设备故障率从平均每个月 5 次减少到 2 次。设备的维护成本从平均每个月 6 千元 降到平均每个月 3 千元。设备恒温区炉管温度波动范围从原来的±1.2℃降到± 1.0℃。 关键词:LPCVD,低压化学气相淀积,设备控制系统,PLC,LabVIEW ABSTRACT This thesis describes an imported LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) equipment whose type is ACS514. It consists of three sets of furnace tube system. The equipment uses ammonia, SiH2Cl2, TEOS and SiH4 etc special gas. The LPCVD equipment failure ra

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