纳米材料的制备方法 1.pptVIP

* * * 二、常用加热方法 1??? 电炉直接加热----电阻丝 2 激光诱导LICVD –Laser-induced CVD 利用反应气体分子（或光敏分子）对特定波长激光束的吸收，引起反应气体分子光解，热解，光敏化反应。 例如用连续输出的CO2激光(10.6μm)辅照硅烷气体分子(SiH4)时，硅烷分子很容易热解 热解生成的气相硅Si(g)在一定温度和压力条件下开始成核和生长。粒子成核后的典型生长过程包括如下5个过程： (i)反应体向粒子表面的输运过程； (ii)在粒子表面的沉积过程； (iii)化学反应(或凝聚)形成固体过程； (iv)其它气相反应产物的沉积过程； (v)气相反应产物通过粒子表面输运过程。 在反应过程中，Si的成核速率大于1014/cm3，粒子直径可控制小于10 nm。通过工艺参数调整，粒子大小可控制在几纳米至100 nm，且粉体的纯度高。 用SiH4除了能合成纳米Si微粒外，还能合成SiC和Si3N4纳米微粒，粒径可控范围为几纳米至70nm，粒度分布可控制在±几纳米以内。合成反应如下 ： 4.4其他方法4.4.1 非晶晶化法 特点﹕工艺较简单, 化学成分准确。 液态金属 非晶条带 热处理 4.4.2 离子注入法 4.4.3 原子法 CO Xe on Ni iron atom on copper