原位GCMS离子源清洁与调节.PDFVIP

Agilent JetClean 智氢洁离子源： 原位 GC/MS 离子源清洁和调节 应用简报 作者 摘要 GC/MS 维护是在样品分析过程中保留分析目标的普遍要求。快速柱内反吹 Harry Prest 是 GC/MS 维护过程中的一次重要改进，能够改善离子源并延长 GC 使用寿 研发化学家 命，并在不放真空的情况下快速完成气相色谱柱和进样口维护。另外，消除 生命科学与化学分析事业部 污染离子源的后洗脱组分已成为压力控制三通配置的突出特点。通过这些改 美国加利福尼亚州圣克拉拉市 进，离子源清洁频率显著降低，但是仍然需要进行清洁。冷却仪器、从分析 仪中取出离子源、机械清洁离子源、更换离子源、重新抽真空以及对分析仪 进行重新调谐和调节以改善系统灵敏度，整个过程可能需要操作人员花费大 量的时间。Agilent JetClean 智氢洁离子源能够将冷却、取出、手动清洁、更 换和抽真空等步骤替换为原位过程，从而节省了时间，减轻了操作人员的负 担。为除去积聚的物质并恢复离子源性能，智氢洁离子源处理中形成的氢类 物质改变了离子源内部的条件。本应用简报介绍了智氢洁离子源的两种操作 方法。 前言 维护在 GC/MS 运行过程中是不可避免的。气相色谱进 样口和色谱柱性能下降后，需要进行维护（如衬管、隔 垫更换和色谱柱切割等）。维护的频率取决于样品的类 型、进样的批次、载气质量及许多其他因素。目的是使 气相色谱系统性能恢复至既定标准，通常将其视作目标 化合物在校准标样中的响应。如果在分析了多个样品批 次后，仅靠气相色谱维护无法恢复响应，这时就需要进 行质谱维护（离子源清洁）。（使用“快速通用 GC/MS 反吹”技术 [1,2,3] 可延长质谱维护周期，保持质谱响 图 1. 响应与采集的样品批次之间的关系。每 6 个批次执 应，并在不放真空的情况下快速完成气相色谱维护。这 行一次气相色谱维护（圆圈）以恢复性能。方形表明需 种方法及其变形方法已得到广泛应用并取得了巨大成 要进行手动质谱维护 功，应视作 GC/MS 配置的规范。） 图 2 显示了应用 Agilent JetClean 智氢洁离子源的潜在优 图 1 示出在多个批次分析过程中响应的下降以及通过气 势。尽管第 6、12、18 批之后的气相色谱维护不可避免 相色谱和质谱维护实现的响应恢复。请注意，下降的指 （例如在不改善样品前处理的情况下），但是直到第 标可能并非仅仅是响应，而且会出现峰形变差（色谱指 90 批样品才需要进行第一次质谱维护。智氢洁离子源 标）、几种敏感目标化合物的选择性丢失或质谱信号与 具有两种应用模式：与样品分析同时进行，或作为离线 色谱指标的同时降低。图 1 还示出在分析了约 6 批样品 的序列后或运行后应用。这些模式分别称为“采集与清 后，响应指标降低至可接受阈值以下。进行气相色谱维 洁”和“仅清洁”。 护（由圆圈表示）后，响应在第 12 批之前得到恢复， 然后在第