晶硅表面纳米减反射微结构制备与应用研究进展.pdfVIP

晶硅表面纳米减反射微结构的 制备与应用研究进展 沈 鸿 烈 hlshen@nuaa.edu.cn 南京航空航天大学材料科学与技术学院 江苏省能量转换材料与技术重点实验室 Page 1 10th CSPV, Nov. 6-8, 2014, Nantong, China Outline 1 引言 2 RIE技术制作纳米减反射微结构 3 MACE技术制作纳米减反射微结构 4 电化学腐蚀制作纳米减反射微结构 5 纳米减反射微结构的气相钝化技术 6 纳米减反射微结构的液相钝化技术 7 纳米减反射微结构在电池中的应用 8 展望 2 Page 2 1. 引言 2012年全球不同技术太阳电池所占份额 Page 3 1. 引言 原料丰富，硅在地壳中含量位居 优势 第二，仅次于氧； 产业化工艺成熟，配套设备齐全。 晶硅 电池 不足 光电转换效率有待提高 Page 4 1. 引言 在现有工业化生产中，制绒过后的单晶硅和多晶硅的 表面反射率仍然较高，在可见光范围内分别为13%和 22% ，且短波方向上的反射率明显较高； 虽然后续工艺中沉积的SiNx薄膜可以进一步起到减反 射的作用，但其只能对一定范围的光起减反射作用， 尤其在短波长范围内的反射率还是很高； 因此，要进一步提高太阳电池转换效率，必须尽量降 低整个光谱范围的入射光在硅片表面的反射率，从而 增大电池对光的吸收率，最终提高电池光电转换效率。 Page 5 1. 引言 飞秒 激光 法 反应离子刻 金属辅助化 纳米硅减 蚀法 学腐蚀法 反射结构 ( RIE ) ( MACE ) 制备方法 电化 学腐 蚀法 Page 6