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光刻机-浙江大学试验室与设备管理处
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编号:
编号:
浙江大学
购置大型仪器设备可行性论证
与审批报告
仪器设备名称
光刻机
申 请 单 位
光学惯性技术工程中心
申 请 人
刘承
经 费 来 源
985
项 目 负 责 人
汪乐宇
申 请 日 期
2010年10月
实验室与设备管理处制
仪器设备中文名称
光刻机
仪器设备外文名称
Mask Aligner and exposure system
型号规格
申购数量
1
单价估计
人民币(元):(略)万
(折合)外币:
主要技术指标
技术指标: 光刻线条精度 优于0.8微米
对准精度 优于0.8微米
带精密气动机构与自动操作功能
主要功能、应用范围
与共享学科
主要功能用途:利用光学掩模板进行光刻曝光和对准,实现图形转移
申 购 理 由 和 必 要 性
光刻机是进行精密图形转移和光学微加工的必备设备,主要利用光学掩模板进行光刻曝光和对准,实现微米级的图形转移,为后续光学和机械微加工创造基础。
浙江大学光电系光学惯性技术工程中心长期从事光纤陀螺技术的研究,在把握光学陀螺的技术创新与发展趋势的过程中发现微光学惯性技术是有很大潜力的一个方向。为推动这个具有学术与工程技术双重重大价值的科研方向,迫切需要增加新的仪器设备以保证研究的进度与课题的完成。要进行微光学技术研究,首先就要有光刻机。它是基础而关键的设备。
选择的(略)光刻曝光系统,主要理由如下:
系统主要指标优于研制要求。
(略)国内外有大量的科研和生产用户,我们将掩模板送去做光刻样品,结果令我们十分满意。
以上申请,恳请领导批准为盼。
调 研 情 况
1、本校有同类设备 0 台,使用情况调研如下:(不够可附页)
单 位
仪器编号
仪 器 名 称
使用情况(繁忙/一般/闲置)
是否开放
2、列出两家可供货厂商及相关情况(仪器性能、售后、价格等的比较,不够可附页)
(略)
预期使用效益及风险预测
预期年有效使用机时: 500 小时/年
人员安排及仪器安装条件
1、人员安排
仪器负责人: 王冬云 职称 副教授 电话 (略) Email
操作人员: 王冬云 职称 副教授 电话 (略) Email 是否专职
2、安装条件:
①仪器安置地址:_ 玉泉 _校区_ 教三 _楼_ 111 _房间;
②房间面积: 50 m2,是否与其它仪器共用 ;
③供水供电及仪器特殊要求(防震、防磁、超净、恒温、接地等)的落实情况:
专 家 组 论 证 意 见
(此项必须填写,其中40万元(含)以上仪器设备须提供会议纪要。专家签名可签在会议纪要上。)
光刻机是进行精密图形转移和光学微加工的必备设备,利用光学掩模板进行光刻曝光和对准,实现微米级的图形转移,为后续光学和机械微加工创造基础。
把握光学陀螺的技术创新与发展趋势的过程中发现微光学惯性技术是有很大潜力的一个方向。为推动这个具有学术与工程技术双重重大价值的科研方向,迫切需要增加新的仪器设备以保证研究的进度与课题的完成。
要进行微光学技术研究,首先就要有光刻机。它是基础而关键的设备。
专家组一致同意购买该项设备。
年 月 日
专家姓名
工作单位
职称
联系电话
签名
组长:舒晓武
光电系
教授
(略)
车双良
光电系
研究员
(略)
张彩妮
光电系
副教授
(略)
承 诺
根据教育部教高〔2000〕9号文件规定,已落实拟购置仪器设备的运行和维修经费;
对于分析测试类及可共享的仪器,已落实管理人员做好大型仪器网络管理系统维护工作;
3. 仪器设备购置后将在满足课题组科研需要的同时,对校内外开放使用。
项目负责人意见及签名:
日期: 年 月 日
审 批 意 见
院(系)领导(或平台负责人)意见:
该仪器设备购买后如出现运行管理、使用效益评价不合格的,同意按照学校有关规定处理。
负责人签字: 单位公章: 日期: 年 月 日
实验室与设备管理处意见:
负责人(签字、盖公章):
日期: 年 月 日
经费主管部门意见:
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