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第 期 第 期 年 月 物 理 学 报
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空心圆管端点附近等离子体源离子注入过程中
鞘层的时空演化!
刘成森 王德真
(大连理工大学物理系,三束材料改性国家重点实验室,大连 !!#$% )
( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿)
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等离子体源离子注入过程中,鞘层的演化规律直接影响到离子注入到材料中的深度进而影响材料表面的性质
和结构,对材料的不同部位这种影响是不同的( 利用无碰撞两维流体动力学模型,研究了有限上升时间的电压脉冲
作用下,共轴放置附加零电极的半无限空心圆管端点附近等离子体源离子注入过程中,鞘层的时空演化规律 通过
(
计算得到了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布,计算了端点附近材料表面处的离子流密度分布和注入
剂量分布随时间的变化规律( 计算机模拟结果显示了空心圆管内部、外部及端点表面处的离子流密度分布和注入
剂量分布存在很大差异(
关键词:等离子体源离子注入,鞘层,流体模型,离子密度,离子注入剂量
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上克服了传统离子注入技术所存在的“视线”限制的
缺点 尤其对一些像工业模具、轴衬、空心管等形状
!, 引 言 (
的工件内壁的离子注入,这一技术显示了独到的应
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等离子体源离子注入( ) 是一种有效的离 用前景
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子注入技术,利用这一技术可以改变材料表面性能, 近年来,人们对空心圆管内壁的等离子体源离
[— ]
例如可以增加材料的耐摩擦性能,提高材料的防腐 子注入做了很多研究( .4253678 ) 9 通过解析模型发
蚀能力,也可以在材料表面形成化合物及对半导体 现了半径为 !: 的空心圆管内离子鞘层的叠加长度
材料进行掺杂等( 在等离子体源离
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