PVD制程介绍教学演示课件.pptVIP

. . PVD技術/制程簡介 . * Content PVD原理介紹 PVD生產流程介紹 PVD顏色介紹及開發系統 PVD信賴性測試項目介紹 . * 1. PVD原理及特點 PVD(Physical Vapor Deposition)即物理氣相沉積技朮﹐即在電場作用下形成的等離子體中, 塊體材料被濺射出來, 而沉積在工件表面, 形成一定厚度的薄膜. 濺射出的靶材粒子 氣體離子 電子 靶材 工件 . * 第一步 氣體離化 eˉ Ar+ Ar 能量 離子化 Argon氣體團 Ar + e Ar+ +2e . * 第二步 濺射 靶材 被濺射出的靶材粒子 Power 氣體離子Ar+ Ar+ + Ti Ti(Atom) +Ar+ 接地 . * 第三步 反應成膜 Ar+ + N2 2N +Ar+ Ti + N TiN 基底材料 . * PVD技術應用于金屬外殼之優點 高金屬質感和艷麗飽滿的色彩效果 優異的功能性(與基材的良好結合﹐高的硬度和耐磨性等) 底材選擇的多樣化(如不鏽鋼﹐鈦合金﹐甚至鋁合金) 制程的良好的穩定性和再現性 適應現代環保潮流 . * 2.1 不銹鋼產品PVD清洗流程圖 SS Product Cleanin