高价钯参与CH键卤化反应还原消除机理研究.pdfVIP

2011 年第69 卷 化 学 学 报 Vol. 69, 2011 第7 期, 821～830 ACTA CHIMICA SINICA No. 7, 821～830 ·研究论文· 高价钯参与 C—H 键卤化反应的还原消除机理研究 张志平 于海珠 傅 尧* 郭庆祥* ( 中国科学技术大学化学系 合肥 230026) 摘要 运用密度泛函理论方法系统研究了氧化条件下钯催化 C—H 键卤(氯)化反应的还原消除机理. 计算结果表明, C —X (Cl)键的形成过程无Pd(IV)型中间体的参与, 还原消除倾向于直接发生在双金属中心的Pd(III)-Pd(III)型中间体上. 作为首例研