含浸Mo後MWNTs触媒之TEM影像照片.PDF

(a) (b) ( c ) ( d ) 圖 3-1-6 含浸 Mo 後 MWNTs 觸媒之 TEM 影像照片 (a) 含浸 5.3 wt.%Mo 之 MWNTs (40000 倍) ；(b)含浸 11.1 wt.% Mo 之 MWNTs (30000 倍) ；(c)含浸 17.6 wt.% Mo 之 MWNTs (70000 倍) ；(d)含浸 25 wt.% Mo 之 MWNTs (20000 倍) 。 (a) (b) 圖 3-1-7 17.6 Mo/MWNTs 觸媒之 TEM 影像照片 另外 ，透過化學吸附測試金屬分散度，以實驗之數據與我們所目 測的 TEM 圖做對照 。所謂金屬分散度，其定義是觸媒表面上的金屬 原子數目與全部之金屬原子數目的比例 ，若比例為100% ，則表示所 有金屬原子皆可與外界接觸 。本實驗所用之觸媒其 MoO3 皆預先在氫 氣環境下升至 500℃還原 1 小時 ，經過還原的MoO2 顆粒於低溫下會 與一氧化碳產生化學吸附 ，假設每個鉬金屬的表面只與一個 CO 分子 發生化學吸附( 即 CO/ Mosurface ＝1 ) ，CO 分子在鉬金屬表面形成單層 吸附後 ，透過公式計算可知每克觸媒其一氧化碳吸附量與金屬分散 度。由表 3-1 我們可看出含浸 5.3 wt.% 以下的鉬具有很高的分散度 ， 5.3 Mo/MWNTs 為 48.2% ，2.6 Mo/MWNTs 更高至 87.1% 。在 5.3 Mo/MWNTs 的 TEM 圖中可見均勻黑點 ；而超過11.1 wt.%鉬含量的 觸媒其分散度直接下滑到只有 10%左右 ，其大小趨勢正好與我們看到 團聚情形的 TEM 圖吻合 ，而CO 吸附量在此時當然隨含浸金屬增加 而變大 。而 CO 吸附量在高分散度樣品( 2.6 Mo/MWNTs 與 5.3 Mo/MWNTs ) 中有增加之趨勢 ；在低分散度( 11.1 Mo/MWNTs 、17.6 Mo/MWNTs 、25 Mo/MWNTs )樣品中 ，吸附量亦有增加的趨勢 。 表 3-1 不同比例的鉬金屬含浸於 MWNTs 的分散度 觸媒種類 分散度( % ) CO 吸附量( µmol/g ) 2.6 Mo/MWNTs 87.1 32.4 5.3 Mo/MWNTs 48.2 35.9 11.1 Mo/MWNTs 8.8 13.1 17.6 Mo/MWNTs 10.9 24.3 25 Mo/MWNTs 11.2 33.2 3.1.2. 觸媒 比表面積 、孔洞體積與孔洞大小分佈 由圖 3-1-8 (a)可觀察到 MWNTs 屬於第 IV 型之等溫線 ，在P/ P0 值小於 0.4 時，N2 吸附量隨分壓的升高逐漸增加 ，此刻進行單層吸附。 當 P/ P 在 0.4-1.0 之間時 ，有明顯的遲滯曲線產生，這是由於 N 在孔 0 2 洞內產生毛細管凝聚作用使得 N2 的吸附量快速增加 ，脫附時礙於管 狀孔道 ，相同分壓下N2 脫附較慢產生遲滯現象 。而曲線的陡峭