磁控溅射氧化铝薄膜的低温晶化及铜(钼)氧化铝纳米多层膜的性能研究-材料学专业论文.docx

Classified Index: TB43, TN21 U.D.C.: 31.530 Dissertation for the Doctoral Degree in Engineering THE LOW-TEMPERATURE CRYSTALLIZATION OF ALUMINA FILMS AND THE PROPERTIES OF COPPER(MOLYBDENUM)/ALUMINA NANO-MULTILAYERES PREPARED BY MAGNETRON SPUTTERING Candidate： Zhang Xiaopeng Supervisor： Vice Supervisor：  Prof. Du Shanyi Prof. Zhu Jiaqi Academic Degree Applied for： Doctor of Engineering Speciality： Materials Science Affiliation： Centre for Composite Materials and Structures Date of Defence： June, 2013 Degree Conferring Institution： Harbin Institute of Technology 摘 摘 要 哈尔滨工业大学工学博士学位论文 哈尔滨工业大学工学博士学位论文 摘 要 氧化铝具有优异的力学、光学、热学等性能，是一种具有广泛应用的陶瓷 材料。一方面，利用氧化铝的高硬度和光学透过性，可以用作红外窗口的透明 保护膜。但目前一般工艺条件下制得的氧化铝薄膜呈现非晶态，无法充分发挥 其机械保护作用，而高质量晶态氧化铝薄膜的制备方法，存在着沉积温度高， 工艺复杂以及成本昂贵等问题，严重限制了其作为中红外透明保护材料的应用 范围，如何在较低的温度下使用比较简单的工艺方法制得晶态氧化铝薄膜是目 前研究的一个热点。另一方面，将氧化铝作为一种单层材料制作成金属/氧化铝 纳米多层膜时，多层膜可以具有很低的热导率，而且具有较好的力学性能，是 一类结构功能一体化的薄膜材料，在热障涂层领域和热电薄膜材料领域有着广 泛的应用前景。目前，对金属/氧化铝纳米多层膜界面特性、力学性能优化机理 和导热机制的认识还存在分歧和不足，需要进一步工作的开展。 针对上述问题，本文采用射频反应磁控溅射制备了氧化铝薄膜，并系统地 研究了氧化铝薄膜生长工艺条件与其结构、力学和光学等性能之间的内在联系； 通过设计在薄膜制备过程间歇利用反溅技术进行辅助，实现了较低温度下制备 高质量的晶态氧化铝薄膜。另一方面，本文采用磁控溅射方法制备了铜(钼)/氧 化铝纳米多层膜，并研究了多层厚度周期对多层膜结构的力学和热学等性能的 影响机制。 XRD 研究表明采用磁控溅射法制备的氧化铝薄膜呈现非晶态，且随着衬底 温度升高，氧化铝薄膜未实现晶化，薄膜硬度基本保持不变，维持在 13.6GPa。 此外，衬底偏压对氧化铝薄膜的晶态影响同样不明显。 在薄膜制备过程间歇利用反溅技术进行辅助，氧化铝薄膜出现较明显的晶 化现象。纳米硬度分析表明，采用反溅模式磁控溅射法制备的氧化铝薄膜，随 着沉积温度由室温增加到 600oC，氧化铝薄膜的硬度先增大后减小，在 450oC 时达到最高值 15.7GPa。这是由于随着沉积温度提高到 600oC 时，反溅过程中 离子撞击所照成的损伤会占据主导作用，使得氧化铝的晶态形核变得困难，从 而导致薄膜硬度下降。与非晶态氧化铝薄膜相比，采用反溅模式制备的晶态氧 化铝薄膜折射率得到了提高。 通过调整沉积时长，制备了一系列厚度周期不同的铜/氧化铝纳米多层膜和 钼/氧化铝纳米多层膜。掠入射 X 射线反射分析表明，多层膜中铜单层、钼单层 和氧化铝单层的密度比其相应体材料的密度稍小。铜(钼)/氧化铝界面的界面粗 - I - - - PAGE VIII - - - III - 糙度和氧化铝/铜(钼)界面的界面粗糙度均呈现随距衬底距离的增大而增大的趋 势，后者大于前者。 随着铜(钼)/氧化铝多层膜厚度周期的逐渐变小，多层膜的纳米硬度逐渐增 大，多层膜厚度周期减小到 20~100nm 临界周期时，多层膜的纳米硬度开始减 小。该临界厚度周期的存在表明纳米多层膜在压头下变形模式可能存在由位错 运动主导到由晶粒间滑动主导的转变。 铜(钼)/氧化铝多层膜的划擦响应行为与氧化铝薄膜的划擦响应行为有显著 不同。氧化铝薄膜的摩擦系数曲线光滑连续，而铜(钼)/氧化铝多层膜的摩擦系 数以较快的速率增加到一定值后，摩擦系数值发生震荡。在划擦初期压头纵向 载荷较小时，铜(钼)/氧化铝多层膜的耐划擦性能优于氧化铝薄膜。表明多层膜 中金属膜层的弹性变形和局部塑性变形改变了压头处的接触边界条