半导体材料应用技术及发展前景教学讲义.pptVIP

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  • 2018-12-06 发布于天津
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半导体材料应用技术及发展前景教学讲义.ppt

半导体材料应用技术及发展前景教学讲义.ppt

原题目:半导体材料应用技术及发展前景 半导体材料对集成电路圆片成品率的影响;氮化硅/氧化膜;芯片与集成电路;? ;二、集成电路芯片成品率的重要性; 3、硅片有效利用面积:从客户的角度,希望拿到有效利用面积比较大的圆片,这也是晶圆尺寸越来越大的原因之一。 由右图可以看出,硅片直径越大,有效利用面积的百分比越大。 圆片成品率越高,意味着可以充分利用圆片的有效利用面积,尤其对于小尺寸圆片,意义更为重大。;(二)工艺技术需求 1、单项工艺:工艺复杂,技术含量高,为保证产品的成品率,必须每道工序精确控制; 2、工艺流程长:从投片到产出经过几百道工序,经历几个月的时间,只要有一道工序有问题,则前功尽弃,除光刻工序外,其它几乎无返工的机会,可见,成品率就显得尤为重要。 ;(三)成本需求 1、投资大:设备基本是进口; 2、运行成本高:动力运行成本,保证车间恒温恒湿和高洁净度的维护成本; 3、材料成本:尤其是硅片成本。   从以上客户、工艺技术和成本需求分析可以看出,提高集成电路圆片成品率的意义特别重大,是集成电路制造企业最重要的质量指标。 成品率除了与工艺技术和生产控制有关外,制造过程中使用的各种材料的质量情况对成品率的提升有重要影响。;(一)硅片的内在质量;(二)线条的影响 1、光刻线条的影响因素: (1)光刻胶:  分辨率:图形的分辨能力  DOF特性:光刻机焦距的容忍度  水份:产生表面缺陷,如:气泡  固体含量:显影效果  粘度:胶厚度及均匀性 (2)显影液:  成分的稳定;;2、蚀刻线条的影响 (1)湿法蚀刻   化学品的纯度   配比的精度:如 BOE/PAE/PAD   表面张力 (2)干法蚀刻   气体的纯度   气体成分的稳定性;(三)颗粒的影响;(四)金属离子;(五)静电的影响;静电的来源:摩擦 主要产生于: (1)人员的动作:鞋与地板、衣服间的摩擦、操作动作产生的摩擦等; (2)硅片与夹具、硅片与片舟、片舟与片盒,器具与工作台、设备手臂移动硅片等。   车间的摩擦无所不在,无时不有,如果产生的??电积累于硅片,对产品有致命的影响。   所以,车间使用的材料和器具必须可以防静电产生或者可以有效释放静电。;; 谢  谢 !!

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