ForouhiBloomer方程在薄光学测量中的应用研究.docxVIP

优秀毕业论文 精品参考文献资料 摘要随着国内纳米产业的不断发展，进口纳米材料及相关半导体器件产品性能检测的 摘要 随着国内纳米产业的不断发展，进口纳米材料及相关半导体器件产品性能检测的 标准化工作，成为了国家“十一五”科研攻坚计划的重点。纳米级薄膜材料，由于 其独特的物理特性和化学特性及易于制作成宏观的纳米材料器件，正成为纳米学研究 中的热点。薄膜许多独特的光学和电学性质与薄膜厚度密切相关，因此厚度测量对于 薄膜材料的光学、电学性质的研究十分重要。 但是，对于检验检疫机构来说，大部分现有的薄膜厚度检测方法存在着检测对象 范围狭窄、检测周期长、对产品有破坏性等问题，不适用于薄膜厚度检测标准化工作 的要求，也无法适应新形势对检验检疫机构提出的快速、无损、准确的产品检测要求。 本课题利用Forouhi-Bloomer方程式与宽光谱(波长190—1000nm)分光光度计 相结合的方法实现对特殊薄膜材料、介质和半导体薄膜的厚度的测量并间接获得材料 的介电常数。通过与其他单波长光学测量设备的结果比较发现，这种能同时得到宽光 谱各波长下折射率和消光系数的测量方法不但快速而且准确可靠。在结合 Forouhi-Bloomer方程和RcwA法计算的基础上，通过这种方法还能得到一维规则周期 性结构的沟槽深度和台阶宽度信息。 这项工作所讨论的方法是薄膜光、电学性质研究以及薄膜生产的在线检测极为有 价值的新型无损测量方法，但尚未得到大规模应用。本课题系统性的研究结果为此新 技术的深入应用开发以及纳米材料检测标准化工作提供了重要参考依据。 关键词：Forouhi-Bloomer方程，纳米薄膜，光学检测，RCWA分析 AbstractWith Abstract With the rapid development of domestic nanometer industry．the performance inspection standardization of import semiconductor devices and relevant nanometer materialS has become important part of the National Eleventh Five—Year Plan in science research．Besides，for the particular physical and chemical properties in nano—device manufacturing， nano film has been the hotspot in nanotechn0109y research．To determine the opto—electronic properties of the nano film，thickness inspection is the critical point． However，the most available inspection methods for nano film thickness bring many negative effects，such as narrow inspecting scale，long time and damaging for products． So，those methods cannot meet the requirements of standardization of test methods and the needs for fast，nondestructire and accurate testing proposed by CIO(Chinese Inspection and Quarantine)． Forouhi—Bloomer Dispersion Equations and wide spectrum(190一1000nm) spectrophotometry are introduced to calculate the film thickness(d)of metal， semiconduetor and dielectric film，and the dielectric constant indirectly． Comparison of results with the e11ipsometer and SEM measurements verify the test results and show that the nk method iS a kind of fast and accurate test method．In addition，Forouhi—Bloomer