利用AFM研究溶剂对菁染料薄膜光学性能的影响-影像科学与光化学.PDFVIP

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2018-12-29 发布于天津
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利用AFM研究溶剂对菁染料薄膜光学性能的影响-影像科学与光化学.PDF

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利用AFM研究溶剂对菁染料薄膜光学性能的影响-影像科学与光化学

19 4 Vol. 19 No. 4 2001 11 PHOT OGRAPHIC SCIENCE AND PHOT OCHEMIST RY Nov. , 2001 研究论文 AFM 1 1 1 2 2 周树云, 张俊平, 陈萍, 速水正明, 冈崎庸树 ( 1 , 100101, 2 , ) : 在CD-R 光盘中, 要求记录介质薄膜有良好的光学性能, 这样才能降低噪音, 提高数据存与读取的可靠性. 菁染料是应用最广泛的记录介质, 本文采用旋涂法制备菁染料薄膜时, 发现溶剂对薄膜的光学性能有很大的影响. 通过 AFM 对薄膜表面的微观精细结构的研究表明, 染料薄膜反射率的高低与薄膜表面粗糙度有关. 其中使用氯仿四氟丙醇和二丙酮醇作溶剂时, 制备的染料薄膜表面平整, 反射率较高; 使用甲醇作溶剂时, 染料薄膜布满直径 0. 3 m 左右的晶粒, 对光线有强烈散射作用, 从而降低了染料薄膜的光学性能. : 菁染料薄膜; 溶剂效应; AFM : 1000-3231( 2000) 04-0257-05 : T Q57 : A , ( Compact Disk R cordabl , CD-R) . CD-R , . CD-R , [ 1-4] , . CD-R , , , . , , , , , . , . , 70%, , [ 5] 20% 40% . , , : 2001-02- 16; : 2001-05- 17 : ( : : ( 1939- ) , , , ; . 257 258 19 . : , , [5, 8] . , , . ( Atomic Forc Microscopy, AFM) , . 1 11 : 548 nm( ) max 12 , , , Acros Organics . 13AFM , SPM400 , T-Mod . 14 2 , 25 25 mm , 12 mm . Hitachi U-3000 , 5. 2 21AFM AFM , 1 . , , , 0. 3 m . 226. 84 nm, ; , , 5. 84 nm; , ( 2. 42 nm) ; , . , , , , , . DVD-R , . , 1999. 10- 11. 4 : AFM 259 . , . a b c d 1AFM