极紫外光学表面污染控制技术的研究进展.PDFVIP

激光与光电子学进展 ， （ ） 犔犪狊犲狉牔犗狋狅犲犾犲犮狋狉狅狀犻犮狊犘狉狅狉犲狊狊 Ｃ 《中国激光》杂志社 ５００３０００５２０１３ 狆 犵 ○２０１３ 极紫外光学表面污染控制技术的研究进展 雷 敏 李小平 苗怀坤 　 　 　 （华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室，湖北 武汉 ４３００７４） 摘要 极紫外（ ）光刻机中光学元件的污染和采用的污染控制策略是影响光刻机性能的重要因素，其中污染主 ＥＵＶ 　 要包括光学表面碳沉积和光学表面氧化，污染控制技术包括智能气体混合技术、保护层技术和污染物清洁技术。 着重论述了上述两种主要污染形式和三种污染控制技术的研究进展，对 ＥＵＶ光刻机中污染研究的前景进行了展 望，并指出其发展面临的挑战及有待解决的关键技术。 关键词 光学制造；极紫外光刻；光学表面污染；污染控制；氧化；碳沉积 　 中图分类号 ； 文献标识码 ： ／ Ｏ４３２．１Ｏ６４４．１ Ａ 犱狅犻１０．３７８８犔犗犘５０．０３０００５ 　 　　　 　 　　　 犇犲狏犲犾狅犿犲狀狋狅犳犆狅狀狋犪犿犻狀犪狋犻狅狀犆狅狀狋狉狅犾犜犲犮犺狀犻狌犲狊犳狅狉犈犝犞犗狋犻犮狊犛狌狉犳犪犮犲狊 狆 狇 狆 犔犲犻犕犻狀 犔犻犡犻犪狅犻狀 犕犻犪狅犎狌犪犻犽狌狀 　 狆 犵　 （ ， 犛狋犪狋犲犓犲 犔犪犫狅狉犪狋狅狉 狅犇犻犻狋犪犾犕犪狀狌犪犮狋狌狉犻狀 犈狌犻犿犲狀狋犪狀犱犜犲犮犺狀狅犾狅 犎狌犪狕犺狅狀 犝狀犻狏犲狉狊犻狋 狅 狔 狔 犳 犵 犳 犵 狇 狆 犵狔 犵 狔 犳 ， ， ， ） 犛犮犻犲狀犮犲犪狀犱犜犲犮犺狀狅犾狅 犠狌犺犪狀 犎狌犫犲犻４３００７４ 犆犺犻狀犪 犵狔 犃犫狊狋狉犪犮狋 犜犺犲狅狋犻犮狊犮狅狀狋犪犿犻狀犪狋犻狅狀犪狀犱狋犺犲犮狅狀狋犪犿犻狀犪狋犻狅狀犮狅狀狋狉狅犾狊狋狉犪狋犲犻犲狊狌狊犲犱犻狀犲狓狋狉犲犿犲狌犾狋狉犪狏犻狅犾犲狋犾犻狋犺狅狉犪犺 　 狆 犵 犵 狆狔 （ ） 犈犝犞犔 犱犻狉犲犮狋犾犪犳犳犲犮狋狋犺犲 犲狉犳狅狉犿犪狀犮犲狅犳狅狋犻犮狊狊狊狋犲犿．犠犲狊狌犿犿犪狉犻狕犲狋犺犲犿犪犻狀犪犮犺犻犲狏犲犿犲狀狋狊犻狀狋犺犲狉犲狊犲犪狉犮犺狅犳 狔 狆 狆 狔 ， ， 狅狋犻犮狊犮狅狀狋犪犿犻狀犪狋犻狅狀 狊狌犮犺犪狊犮犪狉犫狅狀犱犲狅狊犻狋犻狅狀犪狀犱狅狓犻犱犪狋犻狅狀狅犳狅狋犻犮犪犾狊狌狉犳犪犮犲 犪狀犱犮狅狀狋犪犿犻狀犪狋犻狅狀犮狅狀狋狉狅犾狊狋狉犪狋犲犻犲狊 狆 狆 狆 犵 ， 狑犺犻犮犺犻狀犮犾狌犱犲犻狀