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反应溅射气体对CC薄膜成膜特性的作用机制-光学仪器
第 卷 第 期 光 学 仪 器
年 月
文章编号
反应溅射气体对 薄膜成膜特性的作用机制
连玉红张 众黄秋实
同济大学 物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室上海
摘要反应溅射是降低薄膜表面和界面粗糙度的有效手段为了研究反应溅射过程中氮气
含量对所制备的 单层膜成膜特性的作用机制利用掺氮气的反应直流磁控溅射方法
制备了 和 的单层膜样品首先采用 射线光电子能谱 方法测量了 和 单层
膜样品的组分其次基于样品的组分测量结果结合 射线掠入射反射 方法对样品的
厚度和表面粗糙度进行了测量与分析实验结果表明随着反应溅射中氮含量的增大 膜的
沉积速率呈现快速降低后迅速趋于缓慢变化的趋势而 膜的沉积速率几乎没有变化 膜和
膜的表面粗糙度都呈现先减小再增大的趋势且在氮的含量为 的条件下表面粗糙度达
到最小值
关键词单层膜反应溅射组分粗糙度
中图分类号 文献标志码
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