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客户技术培训指南 基础篇 培训内容 气相沉积技术简介 丹普公司设备简介 安全、规范操作的注意事项 设备的基本结构 设备的基本操作 设备的基本维护 异常处理 气相沉积技术简介 气相沉积技术属于固体表面科学的一个分支，是高新技术的重要组成部分之一。 气相沉积技术可以获得微米级、纳米级的单层或多层的新材料，获得具有特殊物理性能、化学性能、力学性能的且与基材的结构、性能不同的新材料。 气相沉积技术应用范围广泛，如：太阳能集热管、太阳能电池、半导体器件、光学器件、建筑和汽车挡风玻璃、工模具超硬涂层、卫生洁具、手表等的装饰层等各个领域具有相当大的生产规模。 在我国，目前直接或间接从事气相沉积技术的工程技术人员、科技工作者人数很多，跨轻工、机械、电子、能源、材料、信息、航空航天等各个行业，而且这支队伍正在迅速扩大。 气相沉积技术概述 气相沉积技术包括： 化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition 简称CVD） 物理气相沉积（Physical Vapor Deposition 简称PVD） 等离子体增强化学气相沉积 （Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 简称PECVD） 物理气相沉积（PVD） 定义：物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源