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光学镀膜AR coating工艺指导 熒茂科技有限公司MILDEX Tech Inc 工程一部 工艺简介目录 1-光学镀膜原理 2-光学镀膜设备简介 3-镀膜靶材介绍 4-ARcoating 原理 5-ARcoating的设计方法 . 光学镀膜原理 1-1光学镀膜之真空镀膜： 1-1-1真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要有两类分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材或药材。 基片与靶材同在真空腔中。 1-1-2蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 1-1-3对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。 光学镀膜原理 1-1-4物理气相沉积技术 这个方法主要应用热升华或原子溅射的方法在 基板上沉积薄膜,它主要有三个过程 1-1-4-1 将钯材固态材料加热升华到气态。