文献回顾空气污染防制相关规定-国立交通大学机构典藏.PDFVIP

二、 文獻回顧 2.1. 空氣污染防制相關規定 空氣污染防制法自民國64 年 5月 23日公布以來歷經 5 次修正(71 年、 81 年、88 年、91 年及 94 年) ，條文從21條增加至 86條 [6] ，顯示環保署因 應環境變遷不斷修改擴充法規，期能有效管制固定、逸散及移動等三大污 染源以維護良好的空氣品質。現就新竹科學工業園區相關法令進行說明： 1. 88 年 9月 15日環保署依空氣污染防制法第 15條規定公告「特殊性工業 區緩衝地帶及空氣品質監測設施設置標準」 [7] ，特殊性工業區並不包括 高科技產業，且新竹科學工業園區設 立在該公告之前，故在規劃與施工 上未設有緩衝地帶及空氣品質監測設施，部分區域民宅與工廠只有一線 之隔，嚴重影響民眾生活環境品質，造成抱怨及陳情不斷。 2. 空氣污染防制法第20條規定「公私場所固定污染源排放空氣污染物，應 符合排放標準。前項排放標準，由中央主管機關依特定業別、設施、污 染物項目或區域會商有關機關定之。直轄市、縣 (市) 主管機關得因特殊 需要，擬訂個別較嚴之排放標準，報請中央主管機關會商有關機關核定 之」。為有效管制高科技產業空氣污染物排放量，環保署於88 年 1月 6 日公告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」 [8] ，其所定義的半導 體製造業是指從事積體電路晶圓製造、晶圓封裝、磊晶、光罩製造、導 線架製造等作業者，但原物料年用量小於表 2.1-1所列者，該項物質不 適用本標準之規定。 94 年度園區適用本標準的廠商共計 77 家，主要管 制項目包括揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫 酸等，管制標準如表 2.1-2 ，列管廠商須依中央主管機關規定之「半導體 製造業揮發性有機物及無機酸污染防制紀錄申報書」，每季申報原物料使 用量、污染防制設備操作及檢測紀錄 。若揮發性有機物年用量大於 50 公噸或揮發性有機物工廠總排放量大於等於 0.6 公斤/ 小時者，其揮發性 有機物防制設備之廢氣排放口應設置濃度監測器。 自從該標準於 89 年 7月 1日正式實施後，園區無機酸鹼及總揮發性 有機物排放量確實大幅減少，但園區除 了半導體製造業外還有光電產業 、電腦及週邊產業、通訊產業、精密機械產業及生物技術產業等五類， 而這些產業尚未有法規管制，其中又以光電產業所產生的空氣污染物佔 大宗，因此環保署於 95 年 1月 5日公告「光電材料及元件製造業空氣污 染管制及排放標準」 [9] ，其空氣污染物及排放標準如表2.1-3 ，屆時產 能大、原物料使用量多的二兆雙星產業都受到法規的約束，應能更有效 管制園區空氣污染物降低排放量。 3.園區內非適用「半導體製造業空氣污 染管制及排放標準」之廠商則需符 合「固定污染源空氣污染物排放標準」 [10] ，茲節錄與園區廠商有關之排 放標準如表 2.1-4 ，該排放標準包括周界及排放管道二部分，周界測定係 在公私場所周界外任何地點，能判定污染物由欲測之公私場所排放所為 6 之測定。若排放標準中未列排放管道排放標準之氣體污染物，應依備註 方法計算其排放管道之排放標準。管制標準包括硫酸液滴、氟離子氟化( 物或氟化氫氣體) 、氯化氫、氨氣、苯、甲苯及二甲苯等，其餘污染物則 是以勞工作業環境空氣中有害物質容許濃度標準 (Threshold Limit Value ，TLV)除以 50後之值作為周界空氣品質標準。 4. 凡是符合環保署 89 年 11月 2日公告「修正第一批至第七批部分公私場 所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源」 [11]及 94 年 9月 6日公 告「第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源」 [12] ，均須依「固定污染源設置與操作許可證管理辦法」[13]申請設置及操作 許可證，操作許可內容包括：固定污染源名稱、原 (物)料、燃料用量或產 品產量及其操作條件、操作期程；空氣 污染防制方法及設備之名稱、型 式、處理容量及操作條件；空氣污染物之收集排放方式、排放管道口徑 及排放口位置；空氣污染物之排放種類 、