双频容性耦合碳氟等离子体的光学诊断研究-物理化学专业论文.docxVIP

博士学位论文双频容性耦合碳氟等离子体的光学诊断研究 博士学位论文 双频容性耦合碳氟等离子体的光学诊断研究 Spectroscopic Diagnostics of Dual—frequency Capacitively Coupled Fluorocarbon Plasmas 学 号：答辩日期： 2015．5．5 大连理工大学 Dalian University of Technology 万方数据 大连理工大学学位论文独创性声明作者郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下进行研究工作所取得的 大连理工大学学位论文独创性声明 作者郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下进行研究工作所取得的 成果。尽我所知，除文中已经注明引用内容和致谢的地方外，本论文不包含其他个人或 集体已经发表的研究成果，也不包含其他已申请学位或其他用途使用过的成果。与我一 同工作的同志对本研究所做的贡献均已在论文中做了明确的说明并表示了谢意。 若有不实之处，本人愿意承担相关法律责任。 学位论文题目： 塑麴查性塑盒毯氯笠离王签的挫堂途逝盟壅 作者签名： 日期：丝年上月上日 大连理工大学学位论文版权使用授权书 本人完全了解学校有关学位论文知识产权的规定，在校攻读学位期间论文工作的知 识产权属于大连理工大学，允许论文被查阅和借阅。学校有权保留论文并向国家有关部 门或机构送交论文的复印件和电子版，可以将本学位论文的全部或部分内容编入有关数 据库进行检索，可以采用影印、缩印、或扫描等复制手段保存和汇编本学位论文。 学位论文题目：塑题空性揭金磁氩笠直王佳的造堂途逝婴窒 作者签名： 日期： 丝年上月上日 导师签名：答辩委员会揣互煎扛一目期．日期： 丛年』月上日兰!竺年二生月—Z_日 万方数据 大连理工大学博士学位论文摘 大连理工大学博士学位论文 摘 要 双频容性耦合等离子体源(Dual Frequency Capacitively Coupled Plasma，DF．CCP) 不但能够产生大面积均匀的等离予体，而且能够独立地控制等离子体密度以及轰击到极 板上的离子能量，因此已被广泛地应用到半导体制造工艺中。近年来，随着微电子工业 的迅速发展，半导体器件特征尺寸的不断缩减，工业上对等离子体的加工工艺也提出了 更高的要求。不仅要求通过改变等离子体外部放电条件，实现对等离子体内部状态参数 更为有效的控制，而且需要进一步揭示等离子体内部微观的物理过程和化学反应机理， 从而为DF．CCP源的优化提供有价值的参考。目前，碳氟等离子体因为能够产生大量与 Si及Si02反应的活性自由基，在刻蚀和薄膜沉积工艺中应用最为广泛。基于上述应用 背景，本论文采用吸收光谱和发射光谱相结合的测量方法，对双频容性耦合CHF3／Ar 和CF4／肘放电体系中，影响等离子体加工工艺的CF2、F、Ar的亚稳态以及电子等活性 物种的数密度以及温度，开展了较为全面的实验研究，并且对该体系r相关自由基的产 生和损耗机制，以及中性气体的加热和冷却机制进行了分析。取得的主要结果如下： l、对双频容性耦合CHF3／Ar放电体系的诊断研究。实验结果表明，在双频放电中， CF2自由基的数密度随放电条件的变化趋势与单高频放电基本一致，只是在引入低频功 率后其数密度的绝对值会减小。然而，如果继续增加低频功率时，CF2自由基的数密度 却基本不变。随着高频功率、气压以及CHF3含量的升高，CF2自由基的数密度均呈现 先快速增加后缓慢增加的趋势。随着放电间隙的增大，CF2自由基的数密度先增加后缓 慢减小，并在放电间隙约为25 mm时出现极大值。另外，F和H原子的相对密度随上 述放电条件的变化与CF2自由基基本相似，但它们在双频放电中的密度却高于单频放电， 这与CF2自由基正好相反。在实验结果的基础上推断：在该放电体系下，CF2自由基主 要的产生机制是在气相中的复合反应H+CF3_CF2+HF和CF+CF3—2CF2以及电子碰撞 解离反应；其主要的损耗机制是在气相中与H原子复合，以及扩散并在极板上聚合成膜。 对F原子而言，电子碰撞CHF3气体使其解离是主要的产生机制，同样气相反应 CHF3+F—CF3+HF和H+F—HF以及扩散并吸附在极板上是其主要的损耗途径。 2、对双频容性耦合CF4／Ar放电体系的诊断研究。研究发现，CF2自由基与F原子 的密度随高频功率的变化趋势与电子密度十分相似，几乎都呈线性关系，而且它们在单 频放电下的密度均明显高于双频放电。随着气压的升高，CF2自由基密度呈现先快速增 加后缓慢增加的趋势，这也与F原子类似。经过推断可知在该放电体系中，CF2自由基 主要的产生机制是高能电子碰撞解离过程，而其主要的损耗机制是扩散损失。对F原子 万方数据 双频容性耦合碳氟等