基于高密度等离子体的束流研究-等离子体物理专业论文.docxVIP

优秀毕业论文 精品参考文献资料 摘要摘要 摘要 摘要 高密度等离子体／离子束流在等离子体材料制备和表面处理等方面有着广泛 的应用。放电模式和放电条件决定了束流的特性，而束流的特性是其实现工业应 用的关键。研究等离子体束流的动力学特征，对于理解等离子体工艺的机制以及 优化工艺参数都有着重要意义。本论文开展了基于ECR和ICP两种放电的等离 子体束／离子束的特性研究，进行了束流在材料制造方面的初步应用探索。 针对ECR放电，采用多种气体放电形成等离子体束和离子束，着重研究了 这些束流的离子特性，并开展了ECR等离子体／离子束与材料相互作用的研究工 作。 首先，利用等离子体质量能量分析仪EQP对ECR氮氩混合等离子体的离子 成分和能量分布函数进行了诊断。当改变气体配比、放电功率和气压时，两种主 要离子时和N2+的离子能量分布会产生复杂变化：离子的峰形在单峰、双峰、 三峰之间相互转变，且对于Ar+和N2+不尽相同，同时离子峰的位置将产生偏移。 这种复杂变化主要由ECR特殊结构引起的分布式电离以及粒子间电荷交换作用 导致，同时与单双原子的分子结构有关。 比较了ECR氢等离子体束和离子束中的离子成分和能量分布情况。两种束 流中均含有H+、H2+和H3+三种离子，但是相对含量不同：在氢等离子体中H2+ 最多而在氢离子束中H3+为主要成分。功率的增加和引出偏压的提高会分别使等 离子体束和离子束中离子特性发生改变：各离子相对浓度均会发生变化，同时离 子能量分布展宽变宽，并且高能部分离子数都相对增加，这和离子间的相互转化 以及空间电场的加速过程有关。 利用ECR氩离子束对钨材料进行了辐照实验，并研究了引出偏压、辐照时 间、基底温度、离子束入射角度等参数对于辐照结果的影响。经过辐照后，在扫 描电镜下可观察到钨表面出现了不同程度的凹凸，表明该离子束与钨材料相互作 用方式基本为物理溅射：离子轰击能量、轰击时间的增加会加剧凹凸程度；基底 温度则基本不影响辐照效果：在离子束垂直入射材料表面时溅射作用最为明显。 利用ECR氮氩等离子体束进行了制备氮化铁磁性薄膜材料的可行性实验。 实验中发现，纯氮气条件下和溅射靶偏压较低时都未能成功制备氮化铁薄膜。这 是因为原子因溅射作用脱离靶材进入气相环境的过程与离子的轰击能量相关，离 子能量不足时，较低的溅射产额不足以在基底上形成膜材料。而加入一定比例氩 气进行混合放电以及提高靶偏压均能加强离子的轰击效应，从而提高了单位时间 的溅射产额，成功制备出薄膜材料。XRD和磁光克尔效应表明，所获得的薄膜 万方数据 摘要材料为多种相结构的铁氮化合物，具有良好的铁磁性。 摘要 材料为多种相结构的铁氮化合物，具有良好的铁磁性。 针对ICP放电，设计了一套大气压甚高频ICP微等离子体射流产生装置， 研究了这种射流的放电特性，并初步开展了射流与材料相互作用的应用研究。利 用该装置，在功率为90W的条件下得到了长度近3cm宽近3mm的温热等离子 体射流。气流量的增加会使射流呈现层流到湍流的转变，长度先增后减：而功率 对于射流长度的影响存在着一个上限，当馈入等离子体的能量与等离子体扩散损 失的能量达到平衡时射流最长。通过二次点火分别得到了接近于室温和温度达几 百度的两种不同的等离子体状态。这种状态变化同时伴随着等离子体形态、射流 长度、线圈电流以及电源功率的变化，表明等离子体发生了E．H的放电模式转 变，这是由于二次点火导致了等离子体瞬间阻抗的变化。阻抗的变化导致了等离 子体密度的骤变，并进一步引起了功率吸收效率的改变。 进行了ICP微等离子体射流在微尺寸铜金属快速成形技术中的初步应用研 究，得到了球冠状和柱状铜金属件。在SEM下观察到沉积物表面颗粒尺寸远小 于铜粉颗粒，表明铜粉被充分熔融。XRD结果显示沉积物表面存在较弱的Cu2+10 峰，这是由于沉积过程中周围空气的卷入导致沉积物出现微弱氧化。 关键词：高密度等离子体，束流，等离子体与材料相互作用 万方数据 AbstractAbstract Abstract Abstract Hi曲一density plasma and ion beams are widely applied in plasma processing such as material synthesis and surface treatment．The characteristics of beams，which depend extremely on the discharge modes and discharge conditions，are crucial to the industrial applications．Experimental studies of kinetic properties of p