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四氨基镍酞菁在金电极上成膜过程的研究-工业催化
2004 年 3 月 工 业 催 化 Mar . 2004
第 12 卷 第 3 期 INDU STR IAL CA TAL YSIS Vol . 12 No . 3
催化剂与载体制备
四氨基镍酞菁在金电极上成膜过程的研究
1 2 2 1 ,2
任春生 ,夏静芬 ,邓杏娣 ,应 敏
( 1. 东华理工学院应用化学系 ,江西 抚州 344000 ; 2 . 浙江万里学院 ,浙江 宁波 3 15 100)
( ) ( ) ( )
摘 要 :采用循环伏安法 CV 和石英晶体微天平技术 QCM 对四氨基镍酞菁 Ni TA Pc 在金电极
上的聚合成膜过程进行了研究 ,讨论了扫描速率 、溶剂 、支持电解质及单体浓度对其成膜过程的影
响 ,考察了该聚合膜在无单体电解质溶液中的氧化还原行为及稳定性 。借助电化学石英晶体微天
( )
平 QCM 重点讨论了过程溶液中离子在膜中传输的机理 。
( )
关键词 :石英晶体微天平 EQCM ; 循环伏安法 ; 四氨基镍酞菁 ; 成膜过程 ;离子传输 ; 电催化
( )
中图分类号 : TQ426. 94 ; TQ035 ; TQ246 文献标识码 :A 文章编号 2004
A study on the growth of Ni TAPc on gol d electrode
1 2 2 2
R EN Ch u ns heng , X IA J i ngf en , D EN G X i ngdi , YI N G M i n
( 1. Dep art ment of Applied Chemist ry , East China Instit ute of Technology , J iangxi Fuzhou 344000 ,
China ; 2 . Zhej iang Wanli U niver sity , Zhej iang Ningbo 3 15 100 , China)
Abstract : The elect ropolymerization of nickel tet raaminop ht halocyanine ( Ni TA Pc) on gold elect rode
was st udied by cyclic volt ammet ry and elect rochemical quartz cryst al microbalance ( EQCM) . The ef
fect s of various p arameter s on t he polymer growt h , such as solvent s , elect rolytes , scanning rates ,
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