发展超音波及紫外光硬化型奈米转印技术於可挠式基板之应用.PDF

行政院國家科學委員會專題研究計畫 成果報告 發展超音波及紫外光硬化型奈米轉印技術於可撓式基板之 應用(第 2年) 研究成果報告(完整版) 計 畫 類 別 ： 個別型 計 畫 編 號 ： NSC 98-2221-E-034-005-MY2 執 行 期 間 ：99年08月01日至 100年07月31日 執 行 單 位 ：中國文化大學機械工程學系 計 畫 主 持 人 ： 林建宏 計畫參與人員： 碩士班研究生-兼任助理人員：蘇信政 碩士班研究生-兼任助理人員：辛孟翰 碩士班研究生-兼任助理人員：廖崧皓 碩士班研究生-兼任助理人員：傅書煥 報 告 附 件 ： 出席國際會議研究心得報告及發表論文 處 理 方 式 ： 本計畫涉及專利或其他智慧財產權，2年後可公開查詢 中 華 民 國 100 年 09月 07 日 ■ 成 果 報 告 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 □期中進度報告 發展超音波及紫外光硬化型奈米轉印技術於可撓式基板之應 用(2/2) 計畫類別： ■ 個別型計畫 □ 整合型計畫 計畫編號： NSC 98-2221-E-034 -005 -MY2 執行期間： 99 年 8月 1日至 100 年 7月 31日 計畫主持人：林建宏 計畫參與人員：蘇信政、辛孟翰、廖崧皓、傅書煥 成果報告類型(依經費核定清單規定繳交)：□精簡報告 ■完整報告 本成果報告包括以下應繳交之附件： □赴國外出差或研習心得報告一份 □赴大陸地區出差或研習心得報告一份 ■出席國際學術會議心得報告及發表之論文各一份 □國際合作研究計畫國外研究報告書一份 處理方式：除產學合作研究計畫、提升產業技術及人才培育研究計畫、 列管計畫及下列情形者外，得立即公開查詢 □涉及專利或其他智慧財產權，□一年■二年後可公開查詢 執行單位：中國文化大學機械工程學系 中 華 民 國 一 O O 年 九 月 七 日 中文摘要 本計劃「發展超音波及紫外光硬化型奈米轉印技術於可撓式基板之應用」為三年期計 畫，主要開發新穎的步進快閃超音波奈米轉印技術及真空及氣壓輔助式紫外光硬化型奈米 轉印技術。在超音波奈米轉印技術方面，以超音波振動取 代熱壓型奈米轉印之加熱源，由 於超音波振動能夠使得模仁與聚合物的接合面快速地升溫 ，並且能夠快速地降溫，達到快 速成型及低製程成本之優點，解決傳統熱壓式奈米轉印之 加熱、冷卻循環的熱損失及時間 損耗問題，因為超音波的振動時間非常短，使得轉印光阻 無法得到充分之能量，所以利用 加熱輔助方式提高基板及轉印光阻之轉印初始溫度，提昇轉印效能，並且以快閃步進方式 提供大面積轉印。在紫外光硬化型奈米轉印技術方面，以 真空及氣壓輔助方式去除轉印光 阻在轉印流動時產生的氣泡，並且在轉印過程中提供均勻壓力，減少轉印後殘留層的厚度， 提高轉印之效能，利用 X 、Y 、平台調整模仁與基板之相對位置，實現多層對準轉印技術。 發展的轉印技術可以應用於生醫、顯示器、光電等領域， 本計畫將轉印技術應用於可撓式 基板上轉印奈米圖案，製作有