《二氧化硅薄膜的制备与应用分析》-毕业论文（设计）.doc

PAGE 常州信息职业技术学院 学生毕业设计（论文）报告 系 别： 专 业： 班 号： 学 生 姓 名： 学 生 学 号： 设计（论文）题目： 二氧化硅薄膜的制备与应用分析 指 导 教 师： 设 计 地 点： 起 迄 日 期： 常州信息职业技术学院电子与电气工程学院 毕业设计论文 毕业设计（论文）任务书 专业 班级 姓名 一、课题名称：二氧化硅薄膜的制备与应用分析 二、主要研究内容：1、对二氧化硅的物理、化学性质进行分析和阐述。 2、分析二氧化硅薄膜的的制备方法，研究物理气相沉积，化学气相淀积，热氧化法，溶胶凝胶法的制备流程。 3、根据不同的需要，研究采用相对应的二氧化硅薄膜的不同测量方法。 4、针对不同的用途和要求，分析相应的性质及发展前景。 三、主要工作内容： 首先查阅相关参考文献资料对二氧化硅薄膜的物理化学性质有所认识，然后根据二氧化硅在不同领域的应用，其次研究相应二氧化硅的参数及制备方法过程，最后对二氧化硅薄膜的应用发展前景做一定的总结。 四、主要参考文献： [1] 张渊. 半导体制造工艺—北京：机械工业出版社,2010.10. [2] 许生,侯晓波,范垂祯,等.硅靶中频反应磁控溅射二氧化硅薄膜的特性研究[J]2001. [3] 张红梅,尹云华.太阳能电池的研究现状与发展趋势[J].水电能源科学，2008，26(6)：193-197. [4] 王学华,薛亦渝,赵力,等新型光学薄膜研究及发展现状[J]2002. 学 生（签名） 年 月 日 指 导 教师（签名） 年 月 日 教研室主任（签名） 年 月 日 系 主 任（签名） 年 月 日 毕业设计（论文）开题报告 设计（论文）题目 二氧化硅薄膜的制备与应用分析 选题的背景和意义： 在微电子工艺中，二氧化硅薄膜因其优越的电绝缘性和工艺的可行性而被广泛采用。在半导体器件中，利用二氧化硅禁带宽可变的特性，可作为非晶硅太阳电池的薄膜光吸收层，以提高光吸收效率；还可以作为金属-氧化物-半导体（MNSO）存储器件中的电荷存储层，集成电路中CMOS器件和SiGeMOS器件及薄膜晶体管（TFT）中的栅介质层等。 20世纪80年代末期，随着光通信及集成光学研究的飞速发展，玻璃薄膜光波导被广泛应用于光无源器件及集成光路中。制备性能良好的用作光波导的薄膜显得至关重要。损耗器件方面有应用前景，在光学集成和光电集成器件方面有应用前景，可作为波导膜、减反膜和增透膜。 课题研究的主要内容： 分析二氧化硅的结构、物理性质、化学性质，阐述二氧化硅薄膜的制备方法。 阐述二氧化硅薄膜的用途。 二氧化硅薄膜的测量方法的对比。 二氧化硅薄膜的用途。 二氧化硅薄膜在不同领域的应用及发展前景。 主要研究（设计）方法论述： 本文主要采用了文献研究法、信息研究法以及描述性研究