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椭偏法测薄膜厚度和折射率
主要的操作步骤:.
步骤1 打开高压开关。
步骤3 把SiO2样品放在测试台上,调节起偏器P的手轮和检偏器A的手轮,使红色光点最强。
步骤4 转动检偏器A手轮,从检偏器A的读数目镜中观测为15O,再转动起偏器P手轮(0—180 O,使红窗光点基本消失。
步骤5 把红窗的手柄向左旋转,关闭红窗,此时μA表有指示。转动起偏器P手轮和检偏器A手轮,使μA表指示趋于0,(或最小),记下检偏器读数A1(0<A1<90o)和起偏器读数P1。
步骤6 转动起偏器P手轮,使P=P1+90O,再转动A手轮,使μA表指示最小,记下检偏器读数A2(90O<A2<180O)值。
步骤7 转动检偏器A手轮,A为180O-A1,转动P手轮,使μA表最小,记下起偏器读数P2的值.
实验原理
一束单色光经样片表面反射后,其光振动的振幅和位相都会发生变化,变化的程度由样片薄膜的厚度,折射率及样片衬底的折射率等决定。下面以衬底上的透明薄膜为倒,分几方面对原理加以说明。
1、边界上光的反射和折射
一单色光由折射率为nl的介质入射到边界,入射角为φ1:,其折射部分穿过边界进入折射率为n2的介质中,折射角为φ2。光学中定义入射光、反射光、法线所构成的平面叫入射面。光振动平行入射面的光波叫p波,垂直入射面的光波叫s波。依次记p波和s波的反射系数与折射系数分别为rp, rs,tp,ts,根据电磁波的反射和折射理论各系数可表示如下:
(1)
式中E表示光振动的电矢量,下标I,refr分别表示入射、反射和折射,方程(1)称为Fresnel公式。
光在介质中的传播服从光的可逆性原理,即光由介质n2以p2角人射到边界,穿过边界进入n1介质,其折射角为φ1,此时p波和s波的反射系数和折射系数依次记为rp*,rps*,,tp* ,ts*,则根据可逆性原理,参照(1)式得
(2)
由式(1)、(2)可得
(3)
2、薄膜系统的反射率-椭偏法基本公式
衬底表面覆有均匀的各向同性薄膜,φ0表示单色光的入射角,φ1表示薄膜内的折射角,φ2表示衬底内的“折射角”, I表示空气与藩膜的分界面, Ⅱ表示薄胳与衬底的分界面, no为空气折射率,n1为透明薄膜折射率, n2为衬底的复数折射率,因为通常的衬底是吸边介质(例如硅,砷化镓等),故有
K为消光系数, n2上标“^”表示该量是复数。依次记边界 I与边界Ⅱ的p波与s波的反射系数为r1p,r1s,,,根据电磁波的反射和折射理论可得另一表示式如下:
(5)
方程(5)也称为Fresnel公式,式中φ0,φ1,满足Snell定律
设—入射光,以p波为例,(s波同理),其入射光电矢分量为Epi。反射光是0,1,2,3,……各级反射光之和,设为Epr(下标r,r,分别表示人射和反射)。由图2可知零级反射(Ep)0为
第n级反射(Ep)n为
因而总反射Epr为
(6)
式中2δ为相邻二级反射光之间因光程差所引起的位相差,其值为
(7)
式中λ为单色光波长,d为薄膜厚度。将式(3)代入(6)消去t1p*及r1p*得
(8)
考虑到|x|1时 成立,求式(8)中级数和,并定义薄膜系统反射率
(9)
可得
(10)
式(10)中Rp,Rs通常是复数,定义它们的比值
(11)
其中tgψ相当于复数的模,Δ相当于幅角.合并式(10),(11)得到椭偏法的基本公式
(12)
公式(12)表示了薄膜厚度 d(包含在δ中)与ψ,Δ的关系,式中 r1p, ,r1s,由式(5)决定。
传统的椭偏仪直接测量的是ψ与Δ的关系,然后用计算机联立计算式(5),(7),(12) 等方程而获得d。目前市售椭偏仪都附有硅样片上各不同n1值的ψ,Δ,d表格和曲线可供查阅。
二、Δ与 d的测量计算
1、ψ与Δ的物理意义
为简单计以简谐波为例叙述如下:
入射光的p多s波与反射光的p波s波的振动方程用复数指数式分别表示为:
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